电弧离子镀方法制备的Ti%2fTiN多层膜的结构与耐腐蚀性能.pdfVIP

第22卷第 2期 中国有色金属学报 2012年2月 Vb1．22NO．2 TheChineseJournalofNonferrousM etals Feb．2012 文章编号：1004．0609(2012)02．0509．06 电弧离子镀方法制备的Ti／TiN多层膜的结构与耐腐蚀性能 宋贵宏，娄 茁，李 锋，陈立佳 (沈阳工业大学 材料科学与工程学院，沈阳 110870) 摘 要：采用电弧离子镀技术，通过周期性变换环境气氛，在7075A1合金上制备了Ti／TiN多层膜，并研究调制 周期对多层膜的结构组成和腐蚀性能的影响。结果表明：多层膜与铝合金衬底界面结合较好，基本没有孔洞等缺 陷。多层膜具有明显的层状特征，层间界面清晰。多层膜中TiN与单层中TiN薄膜有着相同的晶体结构，并存在 (1l1)择优取向，每个调制周期内的TiN层都呈柱状生长。随着调制周期变小，多层膜阳极极化曲线的腐蚀电位增 加，交流阻抗谱的阻抗值增大，容抗弧的半径也增大，即膜层的耐腐蚀性增加。多层膜调制周期的减小使得薄膜 中含有的层界面增多，而贯穿至衬底表面的针孔等缺陷的数量将减少，这样，腐蚀性介质经过针孔等缺陷与衬底 接触的机会变少，这将使薄膜的抗腐蚀能力得到改善。 ， 关键词：Ti／TiN多层膜；电弧离子镀；择优取向；耐腐蚀性 中图分类号：TB43，TG174，TG115 文献标志码：A Structureandcorrosionpropertiesof Ti／TiN multilayerspreparedbyarcionplating SONGGui-hong，LOUZhuo，LIFeng，CHENGLi-jia (SchoolofMaterialsScienceandTechnology,ShenynagUniversityofTechnoloyg,Shenynag110870，China) Abstract：The硎 Nmultilayerswerepreparedusingcathodicracionplatingon7075A1alloybyperiodicallyadjusting theenvironmentalatmosphere，andhteinfluenceofthemodulationperiodonhteirstructureandcorrosionpropertieswas studied．Therebasicallyraenodefects，suchaspinholes，onhteinterfacebetweenmultilayersandA1alloysubstrateand hteadhesionishigh．Tllemultilayerscharacterizehteobviouslayergrowthna dthereisaclearinterfacebewt eenhte nidividuallayers．TheTiNindividuallayerinmu!tilayeiShasobvious(111)preferredgrainorientationassanleassingle TiN film．TheTiN individuallayerineverymodulationperiodgrowsincolumnchraacteristic．1rIlecorrosionpotentialof polariza