SiCl4-Zn体系硅化学气相沉积的化学机理.pdfVIP

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中国有色金属

第23卷第 11期 中国有色金属学报 2013年 11月 、,0I.23No.1I TheCbineseJournalofNonferrousM etals Nov.2013 文章编号:1004—0609(2013)11—3260—07 SiCl4Zn体系硅化学气相沉积的化学机理 谢 刚 一,侯彦青27宋东明 一,林 艳 ,崔 焱 (1.云南冶金集团总公司技术中心,昆明 650031; 2.昆明理工大学 冶金与能源工程学院,昆明 650093; 3.昆明冶研新材料股份有限公司,昆明 650031) 摘 要:基于 MP2/6.311G(d,p)方法,计算并得到 SiC14锌还原各反应通道上各驻点的几何构型、振动频率和能 量。根据密度泛函理论,采用广义密度梯度近似和总体能量平面波赝势方法结合周期性平板模型,研究反应驻点 在 Si(100)面上的吸附、解离及锌还原过程。结果表明:衬底硅参与SiC14锌还原反应,SiC14易在顶位吸附解离成 ~ siC1和一C1自由基;当硅基表面有一Cl自由基吸附时,气相中的zn原子或硅基面吸附的一znCl自由基更容 易与—cl自由基结合,而不是与含氯的硅 自由基(一SiC1,n=l~3)结合。 关键词:多晶硅;密度泛函理论;锌还原;反应机理 中图分类号:O641 文献标志码:A Chemicalmechanism for siliconchemicalvapordepositioninSiCl4-Znsystem XIEGang一,HOU Yan.qing,SONG Dong.ming2一 LIN Yan2CUIYan , , (1.TheTechniqueCenterofYunnanMetallurgyCo.,Ltd.,Kunming650031,China; 2.FacultyofMetallurgicalandEnergyEngineering,KunmingUniversiytofScienceandTechnology,Kunming650093,China; 3.KunmingYeyna New-MaterialCo.,Ltd.,Kunming650031,China) Abstract:Thechannelgeometries,vibrationrfequenciesandeneryg ofallstagnationszincreductionreactionforSIC14 werecalculatedthroughtheMP26/-311G(d,p)method.Accordingtodensiytfunctionaltheory,theeffectsofadsorption, dissociationandzincreductionofstagnationintheSi(100)surfacewerestudiedusingthegeneralizedgradient approximationdensityandtotaleneryg planewavepseudo-potentialmethodcombinedwithperiodicslabmode1.The resultsshow thatsiliconsubstratecanparticipatei

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