C轴垂直取向FePt薄膜的磁和磁光性能研究.pdfVIP

第56卷第3期2007年3月 物 理 学 报 1000．3290／2007／56(03)／1719．06 ACTAPHYSICASINICA ⑥2007 Chin．Phys．Soc． C轴垂直取向FePt薄膜的磁和磁光性能研究* 王淑华 查超麟 高 静 马 斌+ 张宗芝 金庆原 (复旦大学先进光子学材料与器件国家重点实验室，光科学与工程系，上海200433) (2006年6月21日收到；2006年8月15日收到修改稿) 采用直流磁控溅射的方法在氧化镁(100)单晶基板上生长了一系列C轴垂直取向的Fen薄膜，通过改变沉积 时的基板温度，薄膜从Fe，Pt原子无序排列的面心立方结构逐渐变化到有序排列的￡1。相面心四方结构．在此基础 上，系统研究了FePt薄膜的化学有序度对磁和磁光性能的影响．随着有序度的增加，FePt薄膜的磁晶各向异性能， 以及沿垂直方向的矫顽力、剩磁比均增加，在基板温度高于530℃时制备的薄膜中的磁晶各向异性能超过1J／cm3． 同时，还观察到有序FePt合金薄膜的磁光克尔光谱(克尔转角的大小和极值所对应的跃迁光子能量)随化学有序度 的显著变化． 关键词：FePt薄膜，化学有序度参数，磁光克尔光谱 PACC：7550，7820 1．引 言 分层排列)的转变¨_10|，并定义了化学有序度参数Js 来表征Fe，Pt原子有序排列的程度．近期的研究表 ￡1。相FePt有序合金具有很高的磁晶各向异性明，磁光光谱对化学有序、无序结构很敏感u1|， J／cm3)，可以获得很小的热稳定晶粒 能(K。=6—10 尺寸，是理想的超高密度磁记录介质材料，因而受到 基板上分别外延生长了无序和有序的FePt薄膜样 国内外研究者的广泛关注u一10|．磁控溅射是制备薄 品，发现它们具有截然不同的磁光克尔(Kerr)光谱， 膜介质的最常用方法，但室温下溅射制备的FePt薄实验结果和理论符合得很好一-． 膜是化学无序的面心立方结构，Fe和Pt原子随机地 本文利用磁控溅射的方法，在不同的基板温度 占据面心立方晶格的格点，具有较高的对称性，磁晶 下制备了一系列具有不同化学有序度的C轴垂直 各向异性能很小，表现为软磁特性，因此不适合用作 取向的FePt薄膜，并系统研究了这些溅射薄膜的结 记录介质．而￡l。相FePt有序合金是面心四方结构、磁和磁光性能随有序度的变化． 构，Fe，Pt单原子层交替排列，由于Pt原子大的自旋 轨道耦合、Fe和Pt原子之间强的杂化，以及对称破2．实 验 缺，因此有序合金具有很高的磁晶各向异性能¨0|． 根据FePt合金相图，从化学无序的面心立方结构到 采用直流磁控溅射的方法制备FePt薄膜．薄膜 有序的四方结构的变化需要在较高的温度下进行， 沉积在(100)取向的单晶氧化镁基板上，在沉积过程 oC变化到600oC， 在薄膜制备的过程中，通常采用在溅射时加热基 中对基板加热，温度B可从100 板n_10|，或者高温热处理溅射薄膜的方法来获得有 之后不再进行热处理．薄膜的溅射速率不高于0．1 序结构H“o，而薄膜的磁晶各向异性能等磁性能参 nm／s，厚度设定为30nm，在此厚度以下，磁光光谱易 量则随FePt化学有序度的增加而变化．由于化学无受干涉效应的影响，不能反映出薄膜的本征特性． 序相具有面心立方结构的消光特性，因此研究者通 采取XRD进行薄膜的结构表征．FePt无序相满 常采用x射线衍射技术(XRD)来评价FePt薄膜从足面心立方结构的消光特性，没有晶面指数h，k，z *国家自然科学基金(批准号10374019)和上海市科委