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PLD方法制备的纳米FeAl薄膜的结构及应力分析.pdf
第 17 卷 第 9 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol . 17 ,No . 9
2005 年 9 月 H I GH PO W ER L A SER AND PA R T ICL E B EA M S Sep . ,2005
文章编号 : 100 14322 (2005)
PLD 方法制备的纳米 Fe/ Al 薄膜的结构及应力分析
1 ,2 2 2 , 3 1 ,2 2 1
王 锋 , 李 俊 , 李国俊 , 吴卫东 , 唐永健 , 孙卫国
( 1. 四川大学 原子与分子物理研究所, 四川 成都 6 10065 ; 2 . 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 62 1900 ;
3 . 中国科学技术大学 物理系, 安徽 合肥 230026)
摘 要 : 采用 PLD 方法制备了 Fe/ Al 合金薄膜 ,研究了 Fe/ Al 合金薄膜的物相 、结构 、应力等 。研究表
( )
明薄膜的沉积速率随着衬底温度的升高而降低 。原子力显微镜 A FM 图像显示 ,薄膜表面平整 、致密且光滑 ,
( ) ( )
均方根粗糙度小于 1 nm 。等离子体发射谱 ICP 表明 Fe/ Al 原子比为 1 ∶1 。X 射线小角衍射 XRD 分析表明
( )
薄膜中的物相是 Al0. 5 Fe0. 5 ,Al0. 5 Fe0. 5 晶体具有简单立方结构 SC ,晶格常数为 0 . 297 nm ,平均晶粒尺寸为 81.
74 nm ,平均微畸变为 0 . 007 6 。
( ) ( ) ( )
关键词 : 脉冲激光沉积 PLD ; Fe / Al 合金薄膜 ; 原子力显微镜 A FM ; X 射线衍射 XRD
中图分类号 : O484 . 5 文献标识码 : A
Fe/ Al 混合薄膜具有奇特的电、磁 、光等物理性质和热稳定性[ 1~3 ] ,在半导体器件 、信息功能材料 、磁存储
( )
器件 、集成电路等方面有广阔的应用前景 。另一方面 ,在惯性约束 ICF
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