子孔径拼接干涉检测中去倾斜处理技术.pdfVIP

　第 16 卷 　第 7 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 16 ,No. 7 　 　2004 年 7 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Jul. ,2004 　 ( ) 文章编号 : 2004 子孔径拼接干涉检测中去倾斜处理技术 1 2 2 1 张蓉竹 , 　杨春林 , 　许 　乔 , 　蔡邦维 ( 1. 四川大学 电子信息学院光电系, 四川 成都 610064 ; 2 . 成都精密光学工程研究中心, 四川 成都 610041) 　　摘 　要 : 　倾斜放置对大口径光学元件的检测有很大影响 ,为了防止在子孔径拼接干涉检测中倾斜所导致 的数据丢失等严重后果 ,并且实现不同次检测的结果可以相互比较 ,提出了一种软件修正倾斜量的方法。通过 对读出的图形数据进行反向倾斜来降低检测中的元件倾斜程度 ,避免了实际检测过程中手工操作无法达到极 小角度修正的困难。通过实验 ,验证了该方法的可行性和有效性 ,实现了大口径光学元件正确的子孔径拼接检 λ( λ ) 测 ,完成了多次检测结果之间的相互比较 ,结果表明 ,残差平均值仅为 0. 12 = 633nm 。 　　关键词 : 　子孔径拼接 ; 　去倾斜 ; 　光学检测 ; 　残差 　　中图分类号 : 　TH741 　　　　文献标识码 : 　A 　　ICF 系统中大量的大口径光学元件需要高精度的检测手段来保证其加工精度 ,而干涉检测方式具有很高 的精度 ,因此干涉仪成为现代光学检测中最主要的检测工具。通常大口径光学元件的检测需要大口径的干涉 仪 ,而大口径干涉仪价格通常十分昂贵 ,而且空间分辨率较低 ,不能完全满足 ICF 系统检测的需要。为此研究 人员提出使用子孔径拼接干涉检测方法来进行 ICF 系统大口径光学元件的检测工作。在保证高精度的前提 下 ,该方法可以大大减少检测设备投资 , 同时使得小口径的干涉仪具有更高的空间分辨率。在实际检测过程中 不可避免地会由于光学元件放置倾斜而产生的误差 ,在子孔径拼接检测中这种倾斜量对检测结果的影响远大 于在单次检测中的影响。本文探讨了元件的倾斜量对检测结果的影响 ,通过计算软件进行了去倾斜处理 ,得到 了检测结果。 1 　子孔径拼接检测的基本原理 　　子孔径拼接干涉检测的基本原理如图 1 所示 , 图中 W1 , W2 分别表示小口径干涉仪在大口径光学元件表面进行两次检测的 ( ) ( 区域 ,每一个区域对应的相位分布分别用 W′x , y 与 W0 x ′, ) y ′表示 ,它们之间有一定面积的重叠区域。从理论上说 ,重叠 区域两次检测得到的相位分布应该是一致的。但是在实际检测 Fig. 1 　Sketch map of the stitching interferometer 过程中 , 由于干涉仪或被检测元件的移动必然导致两个子孔径 图 1 　子孔径拼接检测示意图 检测得到的相位分布不在同一个平面上 ,而存在相对于 x 轴和y 轴的旋转 , 以及垂直于样品移动平面的位移, 使得重叠区域经两次检测的结果不相同 ,两次检测结果间的关系可以表示为[1 ]