辐射烧蚀CH薄膜非平衡理论计算与实验比对分析.pdfVIP

　第 14 卷 　第 6 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 14 ,No. 6 　 　2002 年 11 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Nov. ,2002 　 ( ) 文章编号 : 2002 辐射烧蚀 CH 薄膜非平衡理论计算 与实验比对分析 1 2 1 2 1 2 1 1 盛家田 , 　杨家敏 , 　李　生 , 　丁耀南 , 　冯庭桂 , 　江少恩 , 　张利发 , 　李 　蒙 ( 1. 北京应用物理与计算数学研究所 , 北京 100088 ; 　2 . 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900) 　　摘 　要 : 　用一维非平衡辐射输运程序和实验提供的黑腔辐射流 ,对 CH 薄膜靶的辐射烧蚀进行了数值模 拟计算。计算结果表明 ,非平衡的黑腔辐射场对 CH 薄膜靶辐射烧蚀的影响十分明显。出靶外界面的辐射流 总强度、等效辐射温度随时间变化、400eV 光子出界面延迟时间随靶厚度变化规律等方面的数值模拟结果与实 验结果基本符合。 　　关键词 : 　辐射输运 ; 　辐射烧蚀 ; 　辐射流 　　中图分类号 : 　TN246 　　　　文献标识码 : 　A 　　在研究 ICF 间接驱动内爆压缩过程中 ,辐射场对靶丸烧蚀过程起十分重要的作用。为了获得靶丸高压缩 比,必须研究辐射烧蚀过程的规律。曾先才等人曾经用解析方法和数字模拟方法对平衡辐射烧蚀过程进行了 研究[1 ,2 ] 。Sigel[3 ,4 ] ,Porter[5 ] ,Orzechowski[6 ] 等人对高 Z 元素的辐射烧蚀进行过理论和实验研究 , 九十年代 Dwards[7 ] ,Endo[8 ] ,Kaiser[9 ] ,Piriz[10 ] 等人对低 Z 元素辐射烧蚀的再发射和辐射传播进行了研究。Edwards[11 ] 等人 ( ) 用普朗克谱和金元素发射能谱 有 M ,N ,O 带 照射低 Z 元素薄膜 ,实验发现两者辐射烧蚀没有明显的差别。 研究 CH 材料的辐射烧蚀是 ICF 间接驱动中一个十分重要的课题。我们在神光 II 装置上通过平板 CH 辐射烧 蚀实验结果与理论计算比对 ,进一步加深对辐射烧蚀规律的认识 ,从而更好地修正理论 ,检验参数和校对程序。 在内爆靶丸设计中 ,最大可能地减少理论设计的不确定因素 ,使得内爆压缩过程模拟更精确更可靠。我们用一 维非平衡辐射输运程序[12 ] ,利用实验提供的黑腔辐射流作为源 ,对光子能量按平衡和非平衡两种分布进行了 模拟计算 ,通过理论计算和实验结果比对获得了一些定性和半定量结果。这些结果为今后 CH 材料辐射烧蚀 实验提出了更明确的目标和内容 ,并为今后理论设计内爆靶丸提供了更可靠的基础。 1 　实验安排和靶结构 　　图 1 给出八路激光束分别从腔靶两端( ) 每端四路 注入黑腔 ( ) 内。两台单特谱仪 SXS 分别监测出靶外界面能谱和黑腔内放 样品附近不同频率辐射流强度。一台透射光栅谱仪监测时间空 间积分辐射能谱。每束激光平均能量260J 。 　　为了研究辐射对不同薄膜靶厚度的烧蚀规律 ,我们选择了 ( μ ) 五种厚度 3. 18 , 4. 17 , 7. 83 , 15 , 45 m CH 平板薄膜作为辐射 3 烧蚀样