溶胶-凝胶法制备低折射率SiO2薄膜的过程控制研究.pdfVIP

溶胶一凝胶法制备低折射率 SiO2薄膜的过程控制研究／王 珊 ·47 · 溶胶一凝胶法制备低折射率 SiO2薄膜的过程控制研究 王 珊 (t-海工程技术大学基础教学学院，上海 200336) 摘要 纳米多孔二氧化硅薄膜具有优 良的物理化学特性和广阔的应用前景。以溶胶一凝胶法制备低折射 率 Si02薄膜为例 ，对化学法镀膜中的溶胶制备、溶胶保存、薄膜制备等3个阶段进行 了研究，利用透射电镜 、红外 光谱仪、原子力显微镜、椭偏仪等对溶胶和薄膜的特性进行 了检测，并对其制备过程进行 了控制，这对制备性能 良好的薄膜材料及其产业化应用具有一定的指导意义。 关键词 溶胶一凝胶 镀膜 过程控制 StudyofProcessControlonSol—gelDerivedOpticalSiOzThinFilmswith Low RefractiveIndex W ANG Shan (CollegeofFundamentalStudies，ShanghaiUniversityofEngineeringScience，Shanghai200336) Abstract Sol—-gelderivedopticalSi02thinfilmshavegoodphysicsandchemicalcharacteristicsandwideap—- plicationsprospects．Processcontrolforsol—gelderivedopticalSi02thinfilmsisstudied inthispaper．So landthin filmsarecharacterizedbyTEM ，FTIR，AFM andellipsometer，respectively．Theresultswillbeusefulintheindustriali- zationoftheperfectfilm materialwithexcellentproperties． Keywords solgelprocess，coating，processcontrol 不满意效果的因素，通过一系列作业技术和活动将各种质量 O 引言 变异和波动降低到最小程度。对于溶胶一凝胶法制备的低折 纳米多孔二氧化硅薄膜 以其特殊 的光学、热学和电学 射率的纳米多孑L二氧化硅薄膜 ，本文分别从溶胶制备、溶胶 性质 ，在微电子 、光学镀膜、传感器 、隔热材料等领域具有很 保存、薄膜制备等 3个阶段详细介绍了整个控制过程 。 好的应用前景[1一。溶胶一凝胶法涂膜与传统的物理镀膜方法 1．1 溶胶制备过程控制 相比具有产品纯度高、均匀性好、容易调节成膜组分 、制备装 溶胶制备过程也就是溶胶形成的过程。一般是将金属 置简单 、成本较低、操作简单、便于经济和高效地完成大面积 的有机或无机化合物均匀溶解于一定的溶剂中形成金属化 涂膜及复杂形态构件 的涂膜等优势，所以溶胶一凝胶法制备低 合物溶液 ，然后在催化剂和添加剂 的作用下进行水解 、缩聚 折射率的纳米多：fLz．氧化硅薄膜成为材料界和物理界科学 反应 ，通过控制各种反应条件 ，得到一种 由颗粒或 团簇均匀 工作者一个很好的选择和研究方 向。低折射率纳米多孔二 分散于液相介质 中形成的分散体系，即为溶胶。此过程 中的 氧化硅薄膜应用要求不同，在溶胶一凝胶法的制备要求上也有 众多因素都直接影响着所镀薄膜的特性和膜层质量 ，需要找 所不 同。