双真空烘烤排气台的研制及应用.pdfVIP

　第 15 卷 　第 2 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 15 ,No. 2 　 　2003 年 2 月 HIGH POWER LASER AND PARTICL E BEAMS Feb. ,2003 　 文章编号 (2003) 双真空烘烤排气台的研制及应用 吴守东 , 　陈 　林 , 　徐 　敏 , 　姚 　斌 , 　陈雪松 ( 中国工程物理研究院 流体物理研究所, 四川 绵阳 621900) 　　摘 　要 : 　分析了放电管稳定试验前的烘烤排气对等离子体焦点装置试验结果的影响 ,介绍了双真 空烘烤排气台的原理和结构设计 ,并利用试验数据说明了该排气台在等离子体焦点装置试验中的重要 性 ,在实际应用中具有潜在的实用价值。 　　关键词 : 　真空烘烤 ;等离子体焦点 ; 中子产额 　　中图分类号 : TB751 　　　　文献标识码 :A ( ) 　　等离子体焦点 dense plasma focus ,简称 DPF 装置研究已经进行了很多年 ,一般存在的问题有 :充氘气后 首次中子产额不稳定 ,多次试验后中子产额下降很快 , 中子波形经常出现双峰现象 ,每次充氘后试验次数只有 十几次 ,需要反复抽真空、充氘气 ,实验效率低。其原因是 :真空放电管内无氧铜、不锈钢等材料放电后所产生 的气体 ,会直接影响放电初始击穿、放电中子产额、中子脉冲宽度以及放电稳定性。DPF 具有潜在的应用前 景 ,特别是在中子照像、X 射线显微光刻和违禁品检测等方面有着重要作用[1 ] 。为保证应用中放电管的运行稳 定性和可靠性及获得理想的试验数据 ,研制双真空烘烤排气台显得尤为重要。其中机械设计及应用是一项非 常重要的研究内容。 1 　双真空烘烤排气台的设计思路 1. 1 　DPF 的工作原理 ( ) 　　等离子体焦点装置由真空室 放电管 、充氘装置、电容 器、场畸变开关等组成。真空室内部由两个同轴电极、畸变 ( ) 元件和高强度绝缘子组成 见图 1 。对于小型等离子体焦 点中子源来说 ,通常将真空室抽至真空度约 10 - 5 Pa 以上, 充入氘气。当电容器放电时 ,在两个电极之间的绝缘子上 发生沿面放电 ,放电层在洛伦兹力的作用下 ,脱离绝缘体 , 形成等离子体电流鞘。在电磁力的驱动下 , 电流鞘被加速, 并抵达阳极终端 ,形成等离子体焦点[2 ] 。 Fig. 1 　Schematic of dense plasma focus device 　　在放电过程中 ,未经烘烤去气的材料在高温下将会产 1. break down ; 2. acceleration ; 3. compression ; 4. collapse 图 1 　DPF 装置结构示意图 生杂质气体 ,从而降低中子产额并容易形成多次聚焦 ,最终 1. 击穿阶段 ;2. 加速阶段 ;3. 箍缩阶段 ;4. 崩溃阶段 影响放电管运行的稳定性和寿命。 1 . 2 　设计思路 　　为了预先对放电管进行烘烤去气 ,设计采用双真空烘烤去气设备。在放电管内部抽高真空的同时 ,对其进 行几百度的高温烘烤 ,烘烤产生的杂质气体将被排出管外。但同时放电管外壁和与其相连的排气管也处在高 温下 ,为了避免其暴露在大气环境中而被氧化 ,从而影响其外观以及最终排气管的使用 , 因而需要对放电管外 部进行低真空排气。另外在放电管外部保持真空