化学镀Co_Ni_P合金薄膜的结构与磁性研究.pdfVIP

　 ( ) 首都师范大学学报 自然科学版 　 第 28 卷 　第 1 期 Journal of Capital Normal University No. 1 2007 年 2 月 (Natural Science Edition) Feb. 2007 化学镀 CoNiP 合金薄膜的结构与磁性研究 1 1 2 2 1 马 　亮 　马 　洁 　郑 　鹉 　张巧红 　刘 　辉 ( 1 首都师范大学 化学系 ,北京　100037 ;2 首都师范大学 物理系 ,北京　100037) 摘 要 　　采用化学镀制备了 CoNiP 磁性合金薄膜 ,分别用能谱仪、XRD 和 AGM 对薄膜的成分、结构和磁性进行了表 征 ,考察了化学镀液中硫酸铵浓度对薄膜成分、结构和磁性的影响. 结果表明 ,随硫酸铵浓度的增加 ,薄膜中的 Co ( ) α ( ) β 含量增加 ,Ni 、P 含量逐渐下降 ;结构逐渐由密排六方结构 hcp Co 的固溶体转化为面心立方结构 fcc Co 的固溶 体 ;矫顽力随之显著增加 ,矩形比变化不大. 关键词 :化学镀 , CoNiP 合金 , 组织结构 , 磁性. 中图分类号:TQ 153 　　磁性薄膜在各种功能器件中得到了广泛的应 锌工艺前处理. 在沉积稳定的前提下 ,优化镀液配 用. 磁性薄膜的制备方法包括物理法和化学法[1 ] . 物 方 ,所得配方为 : CoSO ·7H O 为 01 mol/ L ,NiSO · 4 2 4 理法通常有溅射成膜法、真空蒸镀法等 ,均以高真空 6H O 为 005 mol/ L ,NaH PO ·2H O 为 02 mol/ L , 2 2 2 2 技术为基础 ,需要复杂的设备和严格的制备条件. 化 (NH ) SO 为 01～05 mol/ L ,Na C H O ·2H O 为 4 2 4 3 6 5 7 2 学法主要有电镀和化学镀两种. 电镀受限于基底的 01 mol/ L , pH 为 90 ～95 , 用氨水调节 , 温度为 材料与形状 ,且存在尖端放电、厚度不均等弱点. 而 75 ℃. 化学镀则制备设备简单 ,能在形状复杂的表面沉积 , 用称重法测定镀层沉积速度 ,采用能谱仪对成 且镀层厚度均匀 ,是一种较理想的制备方法.