化学镀NiPZrO2工艺及性能.pdfVIP

第32卷第1期 中南工业大学学报 2 0O 1年2月 s0LrlTI J．CENT UNⅣ．唧}{NOL 化学镀Ni_P-Zr02工艺及性能 江文辉 (中南走学化学化工学院，湖南长沙410083) 摘要：以NiSO+为施踱主盐．次亚磷酸钠为还原荆研究了化学镀法在工件表面获得良好性能的Ni．P-Zrfh镀层的工 艺用正交试验法确定了镀液的最佳成分，考察了施渡温度、搅拌速度、z—h微粒的添加量对棱层形成的影响．并用 x射线衍射和电子探针对镀层的结构进行了分析结果表明，镀液的最佳组成为：NiSO,30g·L1，配合剂18g·L～． 稳定荆2g·I。，次亚磷酸钠20g·L～，促进刑15g·I，1；施谴工艺务件为：施镀温度85—90t，zrq微粒加八量10 ～20z·L～，在施镀过程中采用间戢式搅拌法；经过300℃以下的热处理后镀层结构仍为非晶态结构．经过300℃以 上的热处理后，则变为晶体结构；用以上方法获得的镀层为高磷镀层此外．用浓度为10％(质量分数)的盐酸检验 镀层的耐蚀性．结果表明z“b微粒的加入不会影响N-．P基质层的抗蚀性因此，采用本工艺能获得性能优艮的Ni— P-ZrO,合金镀层，且性能比Nl—P镀层有显著提高 关键词：化学镀：复台镀层；Ni—P-z—h台金 2 中圈分类号：0645 文献标识码：A 文章编号：1005—9792(2001)01-0046-04 自1946年布伦尔和里迪尔发现化学镀镍工艺 。：!!生二!生 以来，化学镀已被广泛用于机械、汽车、电子、航空航 f 天等工业部门．与电镀相比，化学镀不需要外加电 式中：口为沉积速度，mg·h～；m．为试样镀后质量， 源，利用溶液中的还原剂将金属离子还原为金属并 mg；m：为试样镀前质量，nag；t为施镀时间，h． 沉积在基体表面f‘形成镀层，它操作方便，工艺简 I．1．2镀层成分和结构分析 单，镀层均匀，fL隙率小，外观良好，而且能在塑料、 采用电子探针(Z80型)测定镀层成分，用SIE— MENSJ)．500 陶瓷等多种非金属基体上沉积…．Ni．P合食是1种 X射线衍射仪测定镀层结构，结构测定 具有良好性能的_：是面保护材料．当在Ni．P化学镀液 所用参数为Cu靶，cu靶辐射波长为0．15056|lII[1，增 中加入不溶r土粒子时．形成复合镀层Ni—P基质和不 电压为30kv，增电流为20mA I 1 s-艺流程 同微粒的结合所彤成的复合镀层能满足不同用途的 3化学镀Ni—P—Zr02 X 需要．在N∽合金基质中，一些科技T作者用添加 将m钢板加工制成加llalll x宽x高)的试样，除去表面油污，用热水清洗，再用 Mog，SiC，Ce02等微粒的方法来获得不同用途的镀 稀硫酸活化，然后浸入镀槽中施镀．施镀后的试样用 层。!．而Ni．P-Zr02复台镀层有其自身的特点和用 冷水洗净，并用热m吹干． 途，为此，作者对利用化学镀法获得Ni—P—Zr02镀层 的工艺及性能进行了研究 2结果与讨论 1实验部分