光瞳滤波提高投影光刻成像分辨力研究.pdfVIP

维普资讯 第 28卷第 3期 光 电工程 Vol_28 No．3 2001年 6月 0DtO—ElectronicEn~ineerino June 2001 文章编号：1003--501X(2001)。3一OO。g—O3 光瞳滤波提高投影光刻成像分辨力研究 康西巧，罗先刚，陈旭南 (中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术 国家重点实验室，四川 成都 610209) 摘要：针对投影光刘成像系统在数值孔径足够大时所产生的分辨力和焦深的矛盾，详细研完了光 睦滤波对投影成像 对比度 的改善情况 ，根据不 同掩摸 图形设计对应 的最优滤波 器 研 究结果表 明，光睦滤波能大幅度提 高投影光剥成像分辨力井增大焦深 ，是一种 比较有效的提 高光刘成像 分 辨 力的方 法 关键词：光刘系统；投影光刘；图像分辨力；光睦滤波 中图分类号：TN305．7 文献标识码：A AStudyonImprovingImagingResolutionofProjection Ph0toIithograpbywithPupiIFiltering KANG Xi—qiao，LUO Xian-gang，CHEN Xu-nan (StateKeyLaboratoryofOpticalTechnotog@sforMicrofabrication，Institute OpticalandElectronics，ChineseAcadeno,ofSciences，Chengdu610209，China) Abstract：Inaccordancewiththecontradictionsbetweentheresolutionandfocaldepthwhenthe projectionphotolithographicimagingsystemhasanenoughlargenumericalaperture，theimag- ingcontrastenhancementinprojectionphot0Iith。graphywithpupilfilteringisstudiesindetail． Theoptimalfilteringisdesignedaccordingtothe differentmaskpatterns，Thestudyresults show thatthepupilfilteringcanenhancetheimagingresolutionandfocaldepthoftheprojee— tionphotoIithographicsystem inlargescale．Itisaneffectivemethodforimprovingimagingres— olution． Keywords：P0to1ith0graphicsystem；Projectionlithography；Imageresolution；Pupilfiltering 引 言 随着微电子技术向着更高集成度的超微细化发展，给光刻技术提出了重大的挑战。在传统光刻技术 中，为获得较高的分辨力，通常采取提高光刻物镜数值孔径和缩短波长的方法，但在数值孔径增大到足够 大时，分辨力增大所带来的焦深减小已不能被常规光亥工艺所接受，传统方法出现一定的局限性。为此出 现了提高分辨力的波前工程研究，如相移掩模、离轴照明、光瞳滤波等口二。九十年代初，Fukuda等人就提出 光瞳滤波提高光刻系统分辨力和焦深 的思想，之后对此研究也曾有报道，但大多都是经验性的实验研 究，效果欠佳 收稿 日期：ZOO0--12--I】；收刭棒改稿 日期 2001—02-16 基金项 目：国家 自然科学基金资助项 目 作者简介 ：康西巧(1976一)，女(汉族)，河北赵县人，硕士生 ．从事微细加工光学技术研究