气囊气缸式真空紫外纳米压印设备研制.pdfVIP

维普资讯 第35卷第2期 光 电工程 V0I．35。No．2 2008年 2月 Opto—ElectronicEngineering Feb，2008 文章编号：1003—501X(2008)02—0140—05 气囊气缸式真空紫外纳米压印设备研制 董晓文 1,2，司卫华 1,2 顾文琪 (1．中国科学院电工研究所，北京 100080； 2，中国科学院研究生院，北京 100039) 摘要：本文介绍了紫外纳米压印技术原理，以及工艺中模板与基片的平行度对压印质量的影响。研制了气囊气缸 式真空紫外纳米压印设备，其通过气囊气缸使模板与基片平行，从而可在大面积基片上确保压力均匀。研制了相 应的光学系统，着重讨论 了如何实现紫外纳米压印以及光学系统的设计和调整。制备了石英玻璃模板，实现 了在 商用紫外固化聚合物OGI54上的紫外纳米压印，转移复制了具有 lOOnm特征的5cmx5cm面积的纳米结构图形。 关键词：纳米压印；紫外；光学系统；气囊气缸；真空 中图分类号：TN405 文献标志码：A DevelopmentofBellowsCylinderVacuum UV NanoimprintLithographyM achine DONG Xiao-Wen一，SIW ei．hua，一，GU W en—qi， (1．InstituteofElectricalEngineering，ChineseAcademyofSciences，Beijing100080，China； 2．GraduateSchoolofChineseAcademyofSciences，Beijing100039，China) Abstract：TheprincipleofUVnanoimprintlithography(UV-NIL)andtheeffectoftheparallelismbetweenthestamp andsubstrateontheimprintqualitywereintroduced，Bellowscylindervacuum UVnanoimprintlithographymachinewas developed，which couldplacestampandsubstrateparalleltoeachotherthroughbellowscylinder,andtransferredthe pressing force to a large area substrate effectively and uniformly．W ith the design of the opticalsystem，the implementationofUVnano—imprintinglithographyandtheopticalsystem’Sconstructionandadjustmentwereanalyzed． UV nanoimprintlithographyforPolymerOG154wasimplemented．Printingresultsof100nm featuresovera5cm~5cm areawerepresented． Keywords：nanoimprint；Uv；opticalsystem；bellowscylinder；vacuum 1 引 言 紫外纳米压印技术(UV-NIL，UVNanoImprintLithography)t~j是一种在室温、低压环境下利用紫外光固 化高分子聚合物的压印技术。它避免了传统热压印技术的高温、高压条件