现代分析技术青岛科技大学SEMTEMAFM(下篇).ppt

样品制备 TEM样品可分为直接样品和间接样品。 要求： （1）供TEM分析的样品必须对电子束是透明的，通常样品观察区域的厚度以控制在约100~200nm为宜。 （2）所制样品须具有代表性以真实反映所分析材料的某些特征。因此，样品制备时不可影响这些特征，如已产生影响则须知影响的方式和程度。 透射电镜研究高分子时，对样品的要求： 样品在电子束辐照、热和真空条件下保持稳定； 电子束穿透能力较弱。 样品必须选择适当的厚度； 通常置于有支持膜的载网上。  直接样品的制备 粉末样品制备 制备关键是如何将超细粉颗粒分散开，各自独立不团聚 胶粉混合法：干净玻璃片上滴火棉胶溶液，胶液上放少许粉末并搅匀，另一玻璃片压上，两玻璃片对研并突然抽开，稍候膜干。刀片划成小方格，将玻璃片斜插入水中，膜片渐脱落，铜网将膜捞出，待观察。 支持膜分散粉末法： 需TEM分析的粉末颗粒一般都远小于铜网小孔，因此要采用支持膜，有火棉胶膜和碳膜，再把粉末溶剂分散放在膜上送入电镜分析。 树脂包埋：理想的包埋剂应具有：高强度，高温稳定性，与多种溶剂和化学药品不起反应，常用几种包埋剂：G-1，G-2，环氧树脂618，EPON 812E 粉末样品包埋 晶体、薄膜样品的制备 金属样品，先机械研磨后，双喷电解减薄，或者离子减薄； 陶瓷样品机械研磨后上离子减薄； 高分子用超薄切片机，较脆样品可用包埋后切片。 超薄切片机 间接样品(复型)的制备 复型样品一般主要在于观察低衬度样品的表面形貌,对复型材料的主要要求： ①复型材料本身必须是非晶态的； ②有足够的强度和刚度，良好的导电、导热和耐电子束轰击性能。 ③复型材料的分子尺寸应尽量小，以利于提高复型的分辨率，更深入地揭示表面形貌的细节特征。 常用的复型材料是非晶碳膜和各种塑料薄膜。 间接样品(复型)的制备 复型样品一般主要在于观察低衬度样品的表面形貌,对复型材料的主要要求： ①复型材料本身必须是非晶态的； ②有足够的强度和刚度，良好的导电、导热和耐电子束轰击性能。 ③复型材料的分子尺寸应尽量小，以利于提高复型的分辨率，更深入地揭示表面形貌的细节特征。 常用的复型材料是非晶碳膜和各种塑料薄膜。 碳膜萃取:最常用的复型技术 基本过程:前处理，使材料基体中夹杂物或析出物部分露出并用一定厚度碳膜包覆。通过溶解包覆碳膜下部的材料使碳膜脱落。将分离后的碳膜转移到试剂中洗涤。溶去残留的基体，最后移到酒精中洗涤，用样品铜网捞取碳膜。并对碳膜内的夹杂物或析出物进行分析。这些粒子是从复型膜与表面分离时抽取下来的。它在复型膜上的分布仍保持不变。所以可以利用萃取复型来观察分析材料中第二相粒子的形状、大小、分布及其物相。 塑料-碳二级复型制备过程示意图 冷冻蚀刻复型术 显示细胞、组织微细结构的立体构像。 样品制备：①冷冻：浸入冷冻保护剂中，后放入液氮快速冻结；②低温真空内，用钢刀劈开；③蚀刻：真空内将温度回升到-100℃，使断裂面冰升华；④复型:在断裂面以45°角喷镀一层铂膜，增加图像的反差和立体感,再喷镀一层碳膜以加固铂膜。然后用次氯酸钠等腐蚀液除去组织，捞取复型膜在透射电镜下观察。 冷冻蚀刻复型技术是研究膜相结构的重要手段，可应用于研究膜结构与功能的关系。 染色 高分子分正染色和负染色（背景染色）； 磷钨酸和钼酸胺等是负染色剂，而四氧化锇和醋酸双氧铀等则是正染色剂。 高分子乳液类的样品用负染法染色；样品分散后用带支持膜的铜网捞片或滴片后，滤纸轻轻吸干，不要完全干燥，滴加一滴1%的磷钨酸，染色数分钟后，用滤纸吸干染液后，干燥后观察。 块状的样品则可超薄切片后，用四氧化锇染色（蒸汽或浓溶液，强氧化性，对粘膜伤害大）。 多组分多相高分子体系的微观织态结构、 研究高分子的结晶结构、 研究高分子乳液颗粒形态。 TEM在高聚物研究中的应用 纳米球的微观结构 1.研究高聚物的形态和结构 TEM在高聚物研究中的应用 1、复型观察表面形貌。染色后观察橡胶间取向带形态。 2、合金中填充剂的分散。炭黑分散可观察。 3、高分子乳液颗粒状态 E.样品表面导电性良好，需能排除电荷。非导体表面需镀金(影像观察)或镀碳(成份分析)。 F.对磁性样品要先去磁，以免观察时电子束受到磁场的影响。 G.粉末样品适量，不易过多；块状样品大小要适合仪器专用样品底座的尺寸，不能过大。一般小的样品座 3～ 5 mm ，大的样品座为 30～ 50mm ，以分别用来放置不同大小的样品，样品的高度一般限制在5～ l0mm左右． 扫描电镜对样品要求 镀膜 扫描电镜的高能电子束通过样品表面导电层到金属样品台而流入大地，对非导电样品或导电性能差的样品在电子束作用下产生电荷堆积，影响入射电子束斑和二次电子运动轨迹，使图像质量下降。 因此，必须对不导电样品或导电性