氧化铪薄膜的制备及其性能研究.pdfVIP

第 1期 纳 米 科 技 No．1 2013年 2月 Nanoscience Nanotechnology February2013 氧化铪薄膜的制备及其性能研究 王成，周新文，侯令涛，周俊，李伟，吴干德，刘义稳，明莉，潘家荣 (三峡大学化学与生命科学学院，湖北 宜昌 443002) 摘 要：采用电子束反应蒸发金属铪、APS离子辅助反应蒸发氧化铪、RF离子辅助反应蒸发氧 化铪三种方式制备了单层HfO：薄膜，对样品的光学性能、结构特性以及抗激光损伤特性进行研 究，结果表明，离子辅助使氧化铪薄膜更为致密；电子束蒸发氧化铪薄膜为非晶态，离子辅助 制备氧化铪薄膜为晶态。选择合适的离子辅助工艺，有利于降低薄膜的缺陷吸收，提高氧化铪 薄膜的抗损伤性能。 关键词：氧化铪；离子辅助；薄膜；结构；吸收 ResearchonthePreparationandPropertiesofHfO2ThinFilms WANGCheng，ZHOUXin-wen，HOULing-tao，ZHOUJun，LIWei， WUGan-de，LIUYi-wen，MINGLi，PANJia-rong (CollegeofChimeistryandLifescience，ChinaThreeGorgesUniversity，Yichang 443002，China) Abstract：Huafnium oxide (HfO2)monolayerfilmsaresynthesizedbythreedifferentdepositiontechniquesincluding electronbeamevaporation (EB)ofmetalnf,APSionsourceassistedEBofHfO2、RFionsourceasstiedEBofHfO2．The opticalperformance，structuralcharacterizationandtheabilityoflaserdamagethresholdofthethreekindsHfO2filmsare investigated．TheresultsshowsthatHfO2filmsobtainedbyion assistedtechnologyaremorecompactthanothers．The HfO2filmsareamorphousandcrystallineobtainedbyEB andtheion-assistedEB technique，respectively．Theappropri- ateion-assistprocesscanreducedefectinducedabsorbanceandimprovetheperfomr anceoflaserdamagethresholdof HfO2films． Keywords：hafnium oxide；ionassist；films；sturcture；absorbance 中图分类号：TB43 文献标识码：A 文章编号：1812—1918 (2013)O1—0043—04 0 引言 到薄膜中形成缺陷、氧化铪膜料喷溅形成节瘤缺 陷、氧化铪薄膜中的非化学计量比缺陷、氧化铪 氧化铪材料具有高熔点、良好的热稳定性和 薄膜中的晶格缺陷等l4l。此外，不同制备方法 化学稳定性 、在紫外到红外波段均透明等优点， 得到的氧化铪薄膜的应力对氧化铪薄膜的损伤性 因此，氧化铪材料在高损伤阈值薄膜中作为高折 能也有影n~[n8j。研究不同方法制备的氧化铪薄膜 射率材料被广泛应用1【1删。 结构差异对于提高氧化铪薄膜的抗损伤性能具有 氧化铪薄膜的抗损伤性能与其制备工艺密切 重要意义。 相关，主要因为氧化铪膜层在沉积过