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- 2015-08-22 发布于未知
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无机材料学报
维普资讯
第 l1卷 第 1期 无 机 材 料 学 报 Vo1．11，No．1
1996年 3月 JournalofInorganicM aterials M arch．1996
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7 ．77 PCVD法对碳化硅陶瓷的表面改性研究
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谭 寿 洪 陆 忠 乾 黄 玉 珍 沈 月 华 钟 伯 强
(中 丽 海硅酸盐研究所 上海20oo50)
摘 要
^
件 利用等离子辉光放电化学气相沉积技术 (PCVD)，控制甲烷与硅烷质量流量比 硅烷
与氨质量流量 比，在碳化硅基体表面分别沉积上无定形碳化硅和氟化硅薄
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