WO3／Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析.pdfVIP

维普资讯 第 l7卷 第 1期 无 机 材 料 学 报 Vol_17 No 1 2002年 1月 JournalofInorganicM aterials Jan ，2002 文章编号：1000—324X(2002)01—0139—06 WO3／Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析 方 国家 ，刘祖黎 ，姚 凯伦 一。 (1华 中科技大 学激光技 术 国家重点实验室和物理 系，武汉 430074；2 襄樊 学院物 理 系，襄樊 441053；3．中国科学院国际材料物 理 中心 沈 阳 110015) 摘 要 ：采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术 ，在 si(111)单 晶衬底上沉积了WO 薄 膜．采用x射线衍射 (XRD)、喇曼光谱 (RSj、付里叶红外光谱 (PT-IR)及透射电镜扫描附件 (STEM)对不 同条件下沉积 的样品进行了结构分析 结果表 明 氧分压和沉积温度是决定薄膜