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聚三甲硅基丙炔的表面氟化改性及氧氮透过性.pdf
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6一
第l许 cH1NEsEJoURN LlEDCHEMIs1RY 。
聚三 甲硅基丙炔的表面氟化改性及氧氮透过性
堕堕 许观藩 张文浩 闻久绵 张金兰 徐纪平
(中国科学院长春应用化学研究所长春130022) {=)6 -{ .
要 对聚三 甲硅基丙炔 (PTMSP)进行表面氟化改性 ,改性胰的氧氮选择性提高 ,气体透过稳
定性增加.用 XPS谱分析改性后的膜表面 ,其表面结构发生了显著变化.
关键词 聚三 甲硅基丙炔 ,氟化改性 ,气体透过性 .氧 ,氮
丁M P 簦扮
高分子富氧膜材料中,目前 以聚兰印硅基丙炔的氧氨透过系数最大 ],比PDMS还高一
个数量级,但氧氮分离系数低 %,N.(~1.5),气体透过稳定性差,透气性随时间下降、人们对
PTMSP进行了大量的改性研究 ,其中以膜表面改性最为令人注 目.本文报道用F/N:混
合气对 PTMSP膜表面进行单、双面气一固非均相氟化改性 ,提高其氧氨选择性 ,并通过膜表面
的XPS、水接触角 (WCA)的测量,研究了氟化膜表面的结构组成变化及与透气性的关系.
1 实验部分
PTMSP 自制,矾 ≥7×lO,2.5 甲苯溶液在光学玻璃板上流涎成膜 ,膜厚度 80ptm左
右.氟化装置 自制、混台气:F/N。=lt99(V).透气性用El本理化精机K一315~N一03型气体
透过仪测定,温度 25C、XPS用英国VG公司的 ESALABMkI型电子能谱仪进行测量,以
AIKaX一射线作为激发源,通能为 20eV,分析室压~lO Pa,试样本身的碳作为能量标准.接
触角用El本光学株式会社 GI型接触角测定仪测定.
2 结果与讨论
2.1 表面氟化PTMSP膜的ob ,和 P0,
如图 l所示 ,在很稀的F。气流 中,PTMSP膜表面氟化反应进行得很快 ,短时间内使膜的
透气性发生较大变化,经双面氟化的膜反应 1分钟,∞,D,r,达到 4.58,反应 30分钟可达 6.20,
●
P。
. 相应随反应时间下降,这是由于负电性最强的F 与PTMSP的双键加成,与 —CH 的H发
生取代,同时使 si—c断裂,结果形成表面氟化致密层.从图 l还可 以看出 ,相 同条件下经过
相 同反应时间后 ,双面氟化 比单面氟化对膜的透气性影响较大 , 下降多,ao 提高幅度大.
这些结果说 明膜的氟化反应从膜表面开始,形成的致密层渐渐 向探层扩展.双面氟化时形成
的氟化致密层厚度要大于单面氟化 ,因而使 Po,和 ,,N,变化更大.单面氟化时透气性变化与
文献值相近 J.
2.2 表面氟化 PIMSP膜的XPS分析
图 2是氟化后PTMSP膜的XPS谱 图.可以看出,Cn谱氟化后向高结合能侧宽化.表 明
形成C—F、C—F 和C-O等新官能团.由表 l可以看出 ,随氟化反应时问的增长,F/c和 o/c逐
渐增大 ,si/c逐渐减小,说明有三 甲硅基的断裂发生.这个结果与 PTMSP表面溴化结果不
1993—05—26收藕.1993—10—28修 回
国家 自然科学基叠资助项 目
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第 2期 邱雪鹏等 :聚三 甲硅基丙炔的表面氟他改性及氧氮透过性 97
同 ,在溴化时,表面 Br/C和 o/c增大 ,但 si/c基本不变
●
图l 氟化 PTMSP膜的气体运过性与氟化时间的关系 圈2 氟他PTMSP膜 的XPS谱
l,2|双面氯化j3,4:单面氟化 4.氟化前 , 氟化3om
衰
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