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Vo.l 29 高 等学校 化学 学 报 No. 9
2008 9 CHEM ICAL JOURNAL OF CH INESE UN IVERSIT IE S 1859~ 1862
金永龙, 张 宇, 顾 宁
(, , 210009)
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O644. 1; O647; TG 178 A 2008)
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: 2008010 .
: (: 9040602 )(: 20060400904)
(: 060101 B).
: , , , . Em ail: hiroi@ 16 . com
1860 高 等学 校 化学 学 报 Vol. 29
. . PEN .
H itachiU4100 Agilent P icoPlus PEN
, ZEISSAxiovert 200Agilent PicoP lus
H itachiX650.
1. 2
1. PEN
10 m, Photomask, (25 nm)2 h, PEN
.
Photomask, Photomask
, Photomask .
PEN 100 mmol/LAgNO
0 m in, , ,
1 h, PEN
.
PEN ,
200 ! 1 h, .
, CuSO ( 16 g /L)( 48
4
g/L)N aOH ( 28 g /L)( 24 mL /L) Fig. 1 Schematic diagram of selective
, PEN deposition process
Plating so lution: 16 g /L CuSO , 48 g /L potassium sodium
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