磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展.pdfVIP

年第 卷第 期 《 浙 江化 工 》 · · !# $% $$ 文章编号： （ ） %*(+( !# * $$* ( 磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展 郑华均 黄建国 浙江工业大学化材学院 浙江杭州 ’ $() 摘 要 综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态。文章认为，磁控溅射碳 化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面。 关键词 碳化钨 磁控溅射法 催化剂 碳化钨具有非常优异的物理性能，如高硬度、 一般选用第二种方法。 高耐磨、高熔点及低的磨擦系数等。因而它被作为 但是，常规的氩气或氢气保护下的+