柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备TiNC黑色硬质膜.pdfVIP

第40卷第4期 材料保护 V01．40No．4 A 2007年4月 MaterialsProtection pr．2007 柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀 制备Ti．N．C黑色硬质膜 马胜歌。康光字 (深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心，广东深圳518029) [摘要]采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti·N-c多层复合黑色硬质 膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(sEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果 表明，两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜，柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好；中 频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深。 [关键词] 黑色硬质膜；Ti—N—