磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测_杨武保.pdfVIP

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2015-08-29 发布于重庆
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磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测_杨武保.pdf

2005 33 6 CHINA PETROLE M MACH INERY ) 73 ) * 杨武保1, 2 (11 () 21 ) 磁控溅射技术已经成为沉积耐磨耐蚀装饰光学及其他各种功能薄膜重要手段探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射脉冲磁控溅射等方面进步, 说明利用新型磁控溅射技术能够实现薄膜高速沉积高纯薄膜制备提高反应溅射沉积薄膜质量等, 并进一步取代电镀等传统表面处理技术最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术非平衡磁控溅射脉冲磁控溅射薄膜制备工艺石化行业应用引言非平衡磁控溅射技术 , , , , , 1 ; , , , ; 30, [1~ 3] 1 , , , 6 cm , 10~ 200 kHz, 1c () , , , , , , , , , , 2 , 5mA/cm , * ) 74 ) 2005 33 6 , , , , [ 4~ 6] , 1b () , , 脉冲磁控溅射 (PMS) , , , , , 1 000