磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备.pdfVIP

第 卷第 期 原 子 能 科 学 技 术 ! ! # $%’!(%’# ! 年 月 )**+ ,-%./01234 70/3203829:30;2%% (%’)**+ ! 56 56 磁控溅射沉积含 纳米晶钛膜制备 7- ) ) ) 宋应民 罗顺忠 龙兴贵 彭述明 安 竹 刘 宁 庞洪超 ! ! ! ! ! ! ! ! ) ) 段艳敏 !吴兴春 !杨本福 !郑思孝 ! 四川大学 原子核科学技术研究所 四川 成都 ’ #**#! ! # 中国工程物理研究院 核物理与化学研究所 四川 绵阳 )’ #)D** ! ! % $ 摘要 采用直流磁控溅射方法 通过分别改变衬底温度及 分压来制备不同氦含量的钛膜 利用 V3 X7 及 分别对钛膜中的 含量 平均晶粒尺寸及膜的表面形貌进行分析 结果表明 在 $ $ % ’ \WL :1E ,YE V3 ! ! 不同温度范围内 温度变化对所制备钛膜中 含量的影响明显不同 含量与晶粒尺寸直接相关 氦 V3 V3 原子进入钛膜后! ! 抑制了晶粒的长大 随着钛膜中 与 的原子个数比由 增加到 V3 :/ ’*] ’D] :1E 测得的平均晶粒尺寸由约 减小到约 选择合适的 分压 能够制备出 含量较高的氦钛膜 @B2. !2. V3 ! V3 % ! 关键词 磁控溅射 氦含量 氦钛膜 平均晶粒尺寸 中图分类号!