157 nm氟化物光学薄膜制备.pdfVIP

第39卷第11期 光子学报 V01．39No．11 2010年11月 ACTAPHOTONICASINICA November2010 文章编号：1004—4213(2010)11—1961—6 157nm氟化物光学薄膜制备* 薛春荣1’2，易葵1，邵建达1 (1中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800) (2常熟理工学院江苏新型功能材料实验室，江苏常熟215500) 摘 要：为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜，研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料．制备 和研究了六种氟化物单层膜，并以不同高低折射率材料对，设计制备了157nm高反膜和增透膜； 讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜币口增透膜的反射率、透射率、光学损耗等特性．结 果表明，采用NdF3／AlF3材料对设计制备的157nm高反膜的透过率为1．7％，反射率接近93％， 散射损耗为2．46％，已经与吸收损耗相当；以AIF3／LaF3材料对设计制备的157nm增透膜的剩余 反射率低于0．17％． 关键词：氟化物材料；157nm；高反膜；增透膜 中图分类号：0484．4 文献标识码：A 0 引言 1 157 nm薄膜的膜厚监控和光学特 光学材料和薄膜在激光成像技术中发挥着关键 性测量 作用，它们是镜头、镜子等各种关键光学元件的基 1．1膜厚监控 础，对维持光学系统中必要的传输、反射和整体的成 波长越短，膜层厚度的精确监控就越困难．157咖 像质量发挥关键作用n6|．作为光学光刻扩大到157波段，由于材料的吸收、散射以及这个波段对水吸收 nm(及以下)为基础的系统[7。¨，薄膜材料的选择非 的敏感。常规光学监控方法很不精确．本文采用挡板 2。31．157 常困难【1 nm波段，材料选择因为大部分沉 法和预镀层技术相结合，在DMD450镀膜机上，采 积材料的带隙受到限制，只有大带隙的氟化物材料 用1／3圆形挡板，配以自行设计制备的预镀片，进行 可以被接受．以氟化镁为例。它拥有极高的能量间 膜厚监控【l8‘，如图1．使用该方法可以使用普通镀膜 隙，约为12．2eV．其他稀土氟化物材料，如高折射率机，从监控信号理想的波段取监控波长，提高了设备 材料氟化镧LaF。、氟化钕NdF。、氟化钆GdR，低折 的使用性能和157nm薄膜的监控准确度． 射率材料氟化铝AlF3、冰晶石Na。AlF。等。都有类 似的键能和能量间隙趋势，在紫外光区有较好的光 学特性．波长越短，透明基底材料越少．事实上没有 一种单一的体积大的固体在波长短至100nm时仍 是透明的，到了157nm，可用透明基底只有氟化物 单晶∽忉． 制备157nm薄膜器件的困难在于对于薄膜材 料的选取，本文研究了六种宽带隙氟化物薄膜材料； 图1 圆形挡板 制备和研究了六种氟化物材料单层膜；在此基础上， Fig．1Circularbaffle 以不同高低折射率材料对，设计制备了157nm高 1．2光学特性测量 反膜和增透膜；在分析了几种氟化物薄膜的相关性 本文190nm以上波段薄膜透过率和相对反射 Elmer生产的双光束分光 质及组合特性的基础上，优化设计了157nm高反 率的测量设备为Perkin