CdSe薄膜的制备及性能表征.pdfVIP

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CdSe薄膜的制备及性能表征.pdf

第40卷第1期 人 工 晶 体 学 报 v01.40 No.1 —:三Q!!堡兰旦 』Q堕旦塑垒垦Q!璺!塑!旦垦旦gg墨兰璺!垒竖 兰!坠型!垡!兰Q!! CdSe薄膜的制备及性能表征 黄 平1’,李 婧1’2,梁 建1’3,赵君芙1’3,马淑芳1…,许并社1,3 (1.太原理工大学新材料界面科学与3-程教育部重点实验室,太原030024;2.太原理工大学物理系。太原030024; 3.太原理3-大学材料科学与3-程学院,太原030024) (uV—VIS·NIR)分光光度计、荧光分光光度计(PL)对不同沉积电压下所制备的薄膜的晶体结构、形貌及光学性能进 行分析表征。结果表明:所制备的薄膜为立方相CdSe,呈纳米颗粒状,部分粒子表现出不均匀团聚。紫外吸收光谱 的吸收峰较体相CdSe有较大的蓝移,且导致禁带宽度发生改变,表现出量子尺寸效应。样品发射光谱表现出荧光 现象,且单色性好。适当的沉积电压对CdSe薄膜的形貌和质量起关键作用,同时讨论了其反应机理。 关键词:电化学沉积;CdSe薄膜;禁带宽度;沉积电压 中图分类号:0484 文献标识码:A andCharacterizationofCdSeThinFilms Preparation HUANG Pin91’,LI如曙1”,HANGJianl”,ZHAOJun-ful”,MA Shu-fan91”,XUBing—shel’3 of in InterfaceScienceand AdvancedMaterialsof of (1.KeyLaboratory Engineering MinistryEducation, Taiyuan of of of UniversityTechnology,Taiyuan030024,China;2.DepartmentPhysics,TaiyuanUniversityTechnology, Taiyuan ofMaterialsScienceand of 030024,China;3.College Engineering,TaiyuanUniversityTechnology,Taiyuan030024,China) October 29November (m蒯82010,accepted 2010) thinfilmswerefabricatedonITO Abstract:UsingCdS04,H2 Na2 materials,CdSe Se03,andS04鹪raw substrateatroom electrochemicalina methodtwo-electrode glass temperatureby system.Thesamples werecharacterized

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