CoPt和CoPtAg合金薄膜的结构和磁性能.pdfVIP

第34卷 第ll期 稀有金属材料与工程 Vbl_34．N01l 2005年 11月 RAREMEl’ALM^TERIALSANDENGINEERING 杨治广，许小红，武海顺 (山西师范大学，山西临汾041004) 摘要：用磁控溅射法在玻璃基片上制各了具有等原子比组成的不同厚度的coPt薄膜及不同Ag底层厚度的coP似g 5 nm)有 薄膜。真空退火后的结果表明．膜厚对coPt薄膜的微观结构和磁性能有着重要的影响，膜厚较薄时(占≤l 利于易磁化轴(c轴)垂直于膜面取向，从而具有高的垂直磁各向异性；Ag底层可以诱导工』o—coPt相的形成并使c轴 垂直择优取向，且Ag底层越厚其诱导效应越强。 关键词：coPt薄膜；厚度；Ag底层；结构；磁性能 4 中图法分类号：TGl46 文献标识码：A 文章编号：1002-185x(2005)11·1713-04 引起高的退磁能，使比特位的热稳定性降低，由此限 1 前言 制了记录密度的提高。垂直磁记录是解决这一问题的 途径之一。众所周知，选用合适的底层可以改善(或控 ￡，。结构的coPt是一种有序的正方相(图1)，沿 c轴方向co和Pt原子层交替排列，c轴比Ⅱ轴略短， c轴为易磁化方向。这种沿c轴压缩变形的四方结构 层膜的研究发现，用非外延生长方法通过综合控制膜 J／cm3～10厚、底层、退火及组成等条件可以获得高(0叭)垂直取 使coPt合金具有高磁品各向异性能(1 J／cm3)，可以有效提高比特位的热稳定性，降低介质 噪声，并且可以大幅度提高磁记录密度，因而在超高 相的形成和取向生长有着重要的影响。因此，研究膜 记录密度磁记录介质方面有很大的应用潜力[1“J。通常 厚及底层对coPt薄膜的结构和磁性能的影响有着重 要的意义。本研究制备了不同厚度的单层coPt薄膜和 冷基片溅射态F的coPt合金薄膜是无序的fcc结构， 退火可以使coPt合金由软磁的无序fcc相向硬磁的有 序上』。相转化，完全实现这种相变的转化温度约为 Ag底层对coPt薄膜的微观结构与磁性能的影响。 825℃【5，日。 2实验方法 采用直流磁控溅射m7”1在冷玻璃基片卜沉积了不 同厚度的等原子比coPt纳米薄膜及不同Ag底层厚度 的coP“Ag双层膜。工作气体为高纯Ar气，本底真空 度为1×10’4Pa，溅射气压为1．3Pa，溅射功率为40 w，靶基距为8cm。其中，不同厚度的coPt薄膜覆 min 盖了10nm的Ag保护层，并进行了550℃，30 的真空退火处理；对不同Ag底层厚度的coPt薄膜进 图1 co．Pt原子的有序化排列形成了四方上，o相 行了600℃，30min的真空退火处理。采用美国 Atomic