Cr-O-N扩散阻挡层对NicrAlY涂层结合性能的影响.pdfVIP

第44卷 第7期 No·7 金属学玫Vbl·44 SINICA Jul．2008 2008年7月第876-一882页 ACTAMETALLURGICA pp．876_882 姚勇·) 李伟洲·，2) 王启民，) 宫骏-) 孙超·) 李家宝1) 1)中国科学院金属研究所材料表面工程研究部，沈阳110016 2)广西大学资源与环境学院，南宁530004 摘要 挡层抑制元素扩散的同时降低了NiCrAlY涂层与基体间的结合强度，且随着阻挡层中氧含量的增加结合强度逐渐下降．适当的氧 含量可以使NiCrAⅣ／C卜0—-N／DSMll涂层体系具有良好的结合强度和抗元素扩散能力． 关键词 C卜O—N，扩散阻挡层，结合强度，电弧离子镀，DSMll合金 中图法分类号 TGlll．5，TGl74．44文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2008)07—0876—07 oFCr—o—NDIFFUSIoNBARRIERSoNTHE EFFECTS ADHESIoNoFNiCrAlYCoATINGS 1) 公D，o佗口¨，三，肌i旃D乱l，21，删ⅣGo价流¨，GDⅣG九礼¨，S己WC瓷8D¨，三j五口施D ofSurface of ofMetal of 1)Division EngineeringMaterials，1118tituteR启search，chine∞AcadenlySciences，shenya聊； 110016 and 530004 offLesources 2)sch001 EnviroⅡments，Guang)【iuniversityNanniⅡg co竹espo礼det：GoNGJtm，nssoc鼋a毛e 至■ma暮f：妇on雪@主仇r．8e．c佗 鼢D门}ed6剪Ⅳa抚。礼口l^r0芒钍rnjScie扎ce—FtoⅡ佗dn抚D竹D，(劢主扎口—VD．5口57IJ口J， received revi8edform2008_03．05 Manuscript2007_09-14，in as betweenNiCrAllr and ABSTRACTC卜O—Nfilm8dif|usionbarriersweredep08ited coating DSMll8ub8tratearcion e髓ctsofflowratesof and on by plating(AIP)。The oXygennitrogenpha8e andontheadhesion andsubstrateswere contentindiffusionbarriers betweencoatings investiga七ed． of and TheresultsindicatethattheC卜O—Nfilmi8 filmandco瑚iste8 p01ycrystalline Cr203CrN，and