电结晶制Co%2fPd金属纳米多层膜及其磁性能的研究.pdfVIP

2007年上海市电子电镀学术年会论文集 电结晶制Co／Pd金属纳米多层膜及磁性能研究 石新红曹为民印仁和 (上海大学理学院化学系上海200444) 摘要：以单晶Si(111)为基底使用双槽法电结晶制备Co／Pd纳米多层膜，确定了工艺条件．通过电位阶跃法探讨了镀层 晶体成核机理，Co、Pd电结晶初期均为三维瞬时成核过程．使用石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中膜的 Oe左右． 测试了Co／Pd多层膜的磁性能．磁滞回线表明：矫顽力随着磁性层厚度的减小而增大，可达到1130 关键词：电结晶Co／Pd纳米多层膜，x射线衍射，石英晶体微天平，磁滞回线 115．21 中图分类号：TG 文献标识码：A 由磁性层和非磁性层组成的金属纳米多层膜具有优良的磁性和物性，如巨磁阻效应(GMR)和易磁性方向的改变【l·21 促使Co／Pd、Co／Pt多层膜体系成为磁光研究的热点，并因其优良的磁性和磁光特性而成为第二代磁光盘的记录介质．目 前，Co／Pd纳米金属多层膜的制备多采用气相沉积、磁控溅射等技术【4．扪，可精确的控制多层膜的调制波长．电化学方 法因具有设备简单、成本低、可大面积电镀等优点而引起广泛兴趣【6】，国外对电沉积Co／Pd纳米多层膜已进行大量的研 究【_7，舶，但所得到的多层膜的矫顽力远小于物理方法所制得的多层膜．本文研究了在单晶硅表面恒电位双槽法电结晶制 Co／Pd多层膜的工艺，成功制得Co／Pd纳米多层膜；采用电位阶跃法研究了其成核机理，使用石英晶体微天平(EQCM) 精准确测定沉积过程中膜的质量；并用XRD对多层膜的结构进行了表征．同时在室温下测定了Co／Pd多层膜的磁性能． 1实验 1．1电结晶制备 实验采用三电极体系。以单晶Si(111)(N型，单面抛光，电阻率为O．001-0．009Q·cm) X 为工作电极，Pt电极为对电极，面积为l1em2，饱和甘汞电极为参比电极．工作电极前处理为：单晶硅一丙酮清洗(除 O．1 0．5 多层膜，过程由两台ZF-9恒电位仪控制．实验所用镀液为：基本镀钴液(COS047H20mol·dm3+n3803mol·dm-3卜 镀Co添加剂5#5 O．02 ml·dm-3，镀钯液Pd(NH3)2ch39·dm-3+0qI-h)2C12159·drn．3+Ce(S04)2g．dm3；试验前通氮 气除氧，试剂均为分析纯． 1．2电化学测试 实验采用三电极体系，工作电极为单晶Si(111)，对电极为Pt电极，参比电极为饱和甘汞电极．用电化学工作站 CHl660B(上海辰华仪器公司)联机测定．在研究极化曲线时，为模拟多层膜的制备条件，所用电极分别是镀了一层Pd和 镀了一层Co的Si-Pd和Si．Co电极． 1．3SEM表面观察和x前射实验 多层膜的表面由日本产的JSM．6700F场发射电子扫描显微镜观察．x射线衍射谱图由日本产的D／maxPc2500X 射线衍射仪(理学)测定，扫描速率为1。／min． 1．4EQCM测试 。 井状(Well-typeholder)测量池．其中，以9MHzAT-cut金晶振电极为工作电极，其金电极面积为O．2cm2．环状铂丝作辅助电 极，参比电极为饱和甘汞电极．EQCM实验均需先将金晶振电极置于研究溶液中待频率稳定后测试．实验在氮气氛中进行． 1．5多层膜磁性能测试 采用美国量子设计公司生产的物性测量系统(PPMS．9)在室温下测定多层膜的磁滞回线，测量时磁场方向垂直于膜面． 2结果与讨论 2．1极化曲线 一14伊一 t／s f a)