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LaNiO3缓冲层对化学溶液法制备的Pb(Mg13Nb23)O3-PbTiO3薄膜的结构与电学性能的影响.pdf
37卷第2期 人 工 晶 体 学 报 v01.37
No.2
: 兰塑!笙兰旦 』Q堕垦塑垒垦 Q!墨!!婴兰卫生』墅坚坚 一一生堕兰!墅.
缓冲层对化学溶液法制备的
LaNi03
Pb(
M91/3Nb2/3)03一PbTi03
薄膜的结构与电学性能的影响
刘爱云
(上海师范大学物理系,上海200234)
底上引入缓冲层LaNiO,(LNO)和没有引入缓冲层LNO所制备的PMNT薄膜结构及电学性能进行了比较和研究。
x射线衍射测试结果表明:直接在Pt/TiO:/SiO:/Si衬底上所制备的PMNT薄膜含有大量的烧绿石相,且薄膜呈现
薄膜呈现(100)择优取向。通过铁电和介电性能测试表明:当在Pt/TiO:/SiO:/Si衬底上引入缓冲层LNO后,所制
备的PMNT薄膜的剩余极化和介电常数也都得到了较大提高。
关键词:LNO缓冲层;PMNT薄膜;烧绿石相
中图分类号:0484 文献标识码:A
Effectof Buffer ontheStructureandElectrical
LaNi03 Layer
of
PropertiesPb【Mgl/3Nb2/3)03PbTi03
.ThinFilms ChemicalSolutionMethod
Depositedby
LIU
Ai-yun
of Normal
(DepartmentPhysics,s蝴aiUniversity,ShaTIgIlai2(10234,China)
10
’(ReceivedSeptember2007)
films
OH substrateswith
Abstract:92%Pb(MgI/3Nb∽)03-8%PbTi03(PMNT)thinPt/Ti02/Si02/Si
andwithouta havebeen chemicalsolutionmethod.
LaNi03(LNO)bufferedlayer preparedusing
Structuresandelectrical ofthefilmshavebeen and 11)一
properties investigatedc而pared.Highly(t
PMNTthinfilmswith amountsof areobtainedonbarePtelectrodes.On
oriented some pyrochlorephase
the PMNTthinfilmswith onPtelectrodes
contrary,(10
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