LaNiO3缓冲层对化学溶液法制备的Pb(Mg13Nb23)O3-PbTiO3薄膜的结构与电学性能的影响.pdfVIP

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LaNiO3缓冲层对化学溶液法制备的Pb(Mg13Nb23)O3-PbTiO3薄膜的结构与电学性能的影响.pdf

37卷第2期 人 工 晶 体 学 报 v01.37 No.2 : 兰塑!笙兰旦 』Q堕垦塑垒垦 Q!墨!!婴兰卫生』墅坚坚 一一生堕兰!墅. 缓冲层对化学溶液法制备的 LaNi03 Pb( M91/3Nb2/3)03一PbTi03 薄膜的结构与电学性能的影响 刘爱云 (上海师范大学物理系,上海200234) 底上引入缓冲层LaNiO,(LNO)和没有引入缓冲层LNO所制备的PMNT薄膜结构及电学性能进行了比较和研究。 x射线衍射测试结果表明:直接在Pt/TiO:/SiO:/Si衬底上所制备的PMNT薄膜含有大量的烧绿石相,且薄膜呈现 薄膜呈现(100)择优取向。通过铁电和介电性能测试表明:当在Pt/TiO:/SiO:/Si衬底上引入缓冲层LNO后,所制 备的PMNT薄膜的剩余极化和介电常数也都得到了较大提高。 关键词:LNO缓冲层;PMNT薄膜;烧绿石相 中图分类号:0484 文献标识码:A Effectof Buffer ontheStructureandElectrical LaNi03 Layer of PropertiesPb【Mgl/3Nb2/3)03PbTi03 .ThinFilms ChemicalSolutionMethod Depositedby LIU Ai-yun of Normal (DepartmentPhysics,s蝴aiUniversity,ShaTIgIlai2(10234,China) 10 ’(ReceivedSeptember2007) films OH substrateswith Abstract:92%Pb(MgI/3Nb∽)03-8%PbTi03(PMNT)thinPt/Ti02/Si02/Si andwithouta havebeen chemicalsolutionmethod. LaNi03(LNO)bufferedlayer preparedusing Structuresandelectrical ofthefilmshavebeen and 11)一 properties investigatedc而pared.Highly(t PMNTthinfilmswith amountsof areobtainedonbarePtelectrodes.On oriented some pyrochlorephase the PMNTthinfilmswith onPtelectrodes contrary,(10

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