MOD法在种子层Ni-W上制备La0.4Sr0.6TiO3薄膜的研究.pdfVIP

40 助 锨 材 料 MOD法在种子层／Ni—W上制备Lao．4Sro．6Ti03薄膜的研究。 罗清威，王 雪，李风华，冉阿倩，李英楠，樊占国 (东北大学材料与冶金学院，辽宁沈阳110819) 摘要： 采用金属有机沉积法(MOD)在双轴织构的离子处于其中心。整个晶体可被看成是由氧八面体共 Ni一5％(原子分数)W基带上制备了SrTi0。种子层，然顶点联接而成，各氧八面体之间的空隙则由A位离子 后再在种子层上沉积Lao．。Sr。．6Ti03薄膜。SEM图像 显示种子层颗粒分布均匀，大小基本一致。通过XRD 和SEM研究了不同热处理温度对La0．。Sr。．。Ti0。薄 超导带材的缓冲层材料。然而它与Ni-W基底的晶格 膜取向和微观形貌的影响，结果显示，在Ar-4％Hz气 失配度为lo．90％，失配度较大，因此直接在Ni一5％(原 氛下于950℃制备的薄膜取向良好，表面光滑致密，无 裂纹和孔洞出现。 困难。文献r9—12]指出可以通过先在基底上生长1层 关键词： SrTi03种子层；Lao．4Sro．6Ti03缓冲层；热 极薄的种子层来克服晶格失配度大的问题，然后再在 处理：取向 种子层t生长缓冲层。实验试着采用ST()作为种子 中图分类号：TM262 文献标识码：A 文章编号：1001-9731(2011)01-0040-03 2 实 验 1 引 言 实验选取西北有色金属研究院轧制的Ni一5％(原 超导材料以其在能源、交通、医疗、电子通信和国 子分数)W合金作基底(该基带表面光滑度较低)。基 防等领域的广泛应用成为21世纪具有巨大发展潜力 底表面清洁与否对薄膜质量的好坏有重要影响，要提 的材料之一。第二代高温超导带材，又称涂层导体，是 高薄膜的性能，就需要获取表面清洁的基底。由于Ni一 指以YBC0系超导材料为主的稀土类(Re—Y、Nd、 5014(原子分数)W基带表面会吸附氧、氯及碳等元素 Gd、Yb、Er等)钡铜氧化物陶瓷材料，具有较高的不可 的化合物，这些吸附物会对制备的LSTO缓冲层的织 逆性，其临界电流密度-，。值在外加磁场下没有严重的 构产生负面影响，所以需要预先清洗基片[13。。实验采 退降，而且实际已证明在单晶上采用物理方法外延的 YBC0膜在液氮温区．，。已达到106A／cm2，因而如何 先后放入清洗液中超声波清洗30min，最后用去离子 实现脆性的氧化物陶瓷材料YBCO在韧性基带上沉 水经超声波清洗10min，烘干备用。 积，并获取高的J。，一直都是世界各国的研究热点[1]。 涂层导体一般由金属基底、缓冲层、超导层和保护 层组成。缓冲层的作用是为超导层外延生长提供晶格 乙酰丙酮为稳定剂，其中金属原子Sr：Ti的摩尔比按 匹配的界面以及阻止基底与超导层之间的相互扩散。 1：l配制。搅拌均匀得到浅黄色的种子层前驱液，其 目前，制备缓冲层的方法有物理气相沉积(PVD)、金属