MWECR CVD法高速沉积α-SiH薄膜的红外光谱研究.pdfVIP

MWECR CVD法高速沉积α-SiH薄膜的红外光谱研究.pdf

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第 卷 第 期 人 工 晶 体 学 报 ! ! #$% ! ’$ ! 年 月 , ())( * +,-.’/0 ,1 23’456478 8.324/02 +9:; ())( !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 法高速沉积 : !#$% $’ ()* + ! 薄膜的红外光谱研究 宋雪梅,宋道颖,陈蔚忠,芦奇力,冯贞健,鲍旭红,邓金祥,陈光华 (北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室,北京 )))(( ) 摘要:应用微波电子回旋共振化学气相沉积( )方法,在较高速度下沉积了 : 薄膜,用 红外谱 =68. 8# ?2@ 5 147. ! 仪研究了 : 薄膜的结构特性随 、沉积温度和沉积速率变化关系,并对 E 附近的特征吸收峰用高 ?2@ 5 5 A 2@5 ()))CD ! ( B 斯函数进行了拟合分析,获得了沉积高质量 : 薄膜的最佳工艺条件。 ?2@ 5 ! 关键词: ; : 薄膜; 分析;高斯函数拟合 =68. 8# ?2@ 5 7. ! 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) ,BFB / )))?GFHI ())( )!?)!(?)B : ),-./ 01 234% )567,89 0: !#$% $’ ()* + ! 2*;= *,? 9 +*@? ’650=*,*01 %9,6 , , , , !#$ %’()’* !#$ +,-(

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