PLD法制备纳米氧化锌薄膜.pdfVIP

西北大学学报(自然科学版) 2007年6月，第37卷第3期，Jun．，2007，V01．37，No．3 ofNo汕west Joumal Univers畸(N咖ra】ScienceEdition) PLD法制备纳米氧化锌薄膜 陈素果1”，石念宝1，姚合宝1 (1．西北大学物理学系，陕西西安710069；2．西安理工大学理学院，陕西西安710054) 摘要：目的研究制备高质量的纳米znO薄膜的最佳方案。方法通过反应条件和工艺参数的控 制，用PLD法制备纳米氧化锌薄膜，对所制备的纳米氧化锌薄膜进行xRD谱研究，采用原子显微 镜观察其形貌并研究氧化锌薄膜的各种光学性质。结果 在激光脉冲能量为150IIlJ、氧气压为 20Pa条件下制备出了高质量的c轴择优取向的纳米氧化锌薄膜。结论制备工艺参数的控制对 其性质有着极其重要的影响。 关键词：纳米氧化锌；制备；光致发光 中图分类号：048．4 文献标识码：A 文章编号：1000-274X(2007)03旬366旬5 目前，在znO薄膜的生长方面已采用了许多先 1 进的生长技术[1“J，例如激光辅助Mbe生长、电子 实验方法 回旋共振辅助Mbe方法、气相沉积，以及两步法原 子层生长等。本文采用激光脉冲沉积法(PLD)制备 使用激光波长为248 mm的 纳米氧化锌薄膜，装置如图l所示。 作为光源，激光器发出的激光经过焦距为70 该方法的特点是：①可以蒸镀能够吸收激光的 透镜聚光后照射到氧化锌靶材，激光束与靶材料表 高熔点物质；②可得到极大的蒸发速率；③材料加热 面相互作用产生高温等离子体，高温等离子体绝热 源与蒸镀材料、基片不处同一腔室，因此容易控制蒸 膨胀喷射到衬底上凝结成氧化锌薄膜。 镀环境气氛；④可获得粒径小纯度高且粒度均匀的 本文使用纯度为99．99％的氧化锌作为靶材， 纳米微粒。近几年，此方法越来越受到人们的重视， 镀膜前对衬底进行清洗，并用浓度为0．02 但对制备时的反应条件仍没有一个统一的说法。本 HF水溶液除去表面的氧化物杂质，腐蚀时间10 文研究了不同条件下的薄膜状况，找出最佳制备条 min，干燥后放人反应室，进行实验。制样条件如下： 件，并分析其光学性质。 1)激光脉冲能量分别为84IIlJ，150n1J，200IIlJ， 脉冲频率为5Hz，基底选用单面抛光的P型硅 min升高 的距离为50mm，衬底温度从室温每隔10 溅射，在溅射过程中。靶材和衬底分别以2r／min，7 r／min的速度转动，溅射时间为90min，沉积氧化锌 薄膜(把制备的薄膜分别称作样品1、样品2、样品 3)。 图1 PLD装置图 2)激光脉冲能量为150111J，其余条件不变时， 7111edeviceof 1a8er Fig．1 pul8edd印osition 制备的薄膜分别称作样