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Ti-X-C(X=Si,Al)三元体系的元素机械合金化.pdf
第35卷 增刊3 稀有金属材料与工程 V01.35,Suppl_3
2006年 12月 RAREMETAL凇TERIALSAlH)ENGINEERING December2006
The6thEastAsiaConferenceonChemicalSensors
theCharaCteristicsofTitaniumoxide
Study
XRDAE
IonSensor andS
Hydrogen Using
Jung—ChuanChou,Hung—HsiYang
SchoolofElectmnic Yunlin ofScienceand
(Graduate Engineering,NationalUniVersity Technology,Douliou,Taiwan640,China)
E-mail:choujc@pine.yuntech.edu.tw
the
Abstract:wetheextendedionsensitive titanium filmon
study gate stmcture,anddeposit oxide(Ti02)thinp-type(1
ion structureis ofthemetaloxide
substrate.Thedeviceofthe acommercialdevice
hydrogensensing Ti02/Si-substrate,and
tothe are
semiconductorfieldef话ct connected device.The and
transistor(MOSFET)isseparativesensing sensitivitylinearity
80 4
measuredunderdif琵rentwork themixedratioofAr/02is m1.min“/20 work is
pressures.When m1.min~,thepressurePa,the
isl50 the timeistwo better ofthe and are36.49
sputteringpower W,andsputtering hours,thesensingpropeniessensitiVitylinearity
and instrumentsare thesurfaceofTi02 as dif行action
mV/pH0.99654,respectively.However,someanalyzed membrane,suchX—ray
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