Ti掺杂对α-CH膜组织结构和性能的影响.pdfVIP

第37卷 第9期 稀有金属材料与工程 Voi．37，No．9 2008仨 9月 RAREMETALMATERIALSANDENGINEERlNG 2008 September Ti掺杂对口．C：H膜组织结构和性能的影响 马国佳1，张晓囡2，武洪臣1，张华芳1，彭丽平1 (1．北京航空制造研究所高能束流加工技术国防科技重点实验室，北京100024) (2．哈尔滨q-程大学，黑店江哈尔滨150001) 摘 被用来在膜与基体之间形成过渡层，提高膜基界面的附着力。通过x射线光电子能谱、纳米压痕、摩擦磨损等表征手 段比较2种薄膜的化学组成、微结构特征和力学性能。结果表明：掺Ti口．C：H膜是含有TiC纳米晶粒的复合膜结构， nm，掺Ti GPa左右，而且结合力也 其中TiC晶粒的大小约是5 a，C：H膜的力学性能得到明显改善，硬度被提高到24 明显得到提高。在大气中对样品进行热处理后，再进行摩擦磨损试验，结果表明Ti掺杂改善了a．C：H膜的热稳足性。 关键词：a．C：H膜；类金刚石；PSII；Ti掺杂 中图法分类号：0484．1：TG71文献标识码：A 文章编号：1002．185X(2008)09．1614．05 类金刚石(DLc)膜是一种非晶碳膜，具有高硬度、C离子注入，从而形成过渡层，过渡层厚度为50～80 高弹性模量、低摩擦系数等优良性能，因此常被用作 零件的保护膜，广泛应用于机械、电子等领域。但随 入后便开始DLC膜的沉积工艺。具体工艺参数见表1。 着DLC膜研究的深入，人们发现DLC膜还存在一些缺 点，如：膜中sp3键在温度增加至U350℃时，会逐渐石 表1 沉积类金刚石膜的实验参数 Table1 Parametersfor theDLCfilm 墨化…；膜和基体之间的压应力较大，严重影响附着 preparing 力，尤其是含氢类金刚石膜(口．C：H)在金属基体上的生 Parameters a—C：Ha．C：HfiIm fim withTi 长更加困难，都限制了DLC膜的工业应用。近几年来， C2H2flowrate／cm’．rain‘140 40 DLC掺杂常被用来解决这些问题，取得较好的效 gas 果[2卅。 Magneticsputteringtarget current／A 1 Magneticsputteringtarget 本研究对采用磁控溅射沉积制备的有Ti和无Ti Substratebias／V -100 -100 a．C：H膜进行比较，着重研究有Ti和无Ti类金刚石膜 旦!!P!!!!i211i里!地i! i! iQ 的组织结构、力学性能和热稳定性变化。 1 实验方法 ’ 线光电子能谱(XPS)分别表征薄膜的表面形貌、微观结 试验在自制的多功能全方位离子注入装置上进