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第36卷第l期 发 光 学 报 V01.36No.1
Jan..2015
2015年1月 CHINESE OFLUMINESCENCE
JOURNAL
JD027舶
文章编号:l000-7032(2015)01
Y2
03:Bi,Yb减反转光薄膜的制备及其性能研究
林 捷,王如志8,盖 红,王 波,严 辉
(北京工业大学材料科学与工程学院,北京100124)
摘要:采用脉冲激光沉积(PLD)方法在湿法腐蚀后的si(100)衬底上制备了Y:o,:Bi,Yb减反转光薄膜。所
制备的薄膜在300—800nm波长范围内的平均反射率最低至5.28%,同时在晶体硅太阳能电池最佳响应范
围内的980nm附近表现出了良好的下转光特性。与非减反下转光薄膜相比较,具有减反结构的Y:0,:Bi,Yb
下转换薄膜的转光强度有了明显的提升。随着衬底腐蚀时间在一定范围内的延长,Bi3+和Yb“的发射峰强
度线性增大。该减反转光薄膜为太阳能电池效率提高提供了一种简单可行的方法。
关键词:太阳能电池;减反陷光;下转换;Y20,:Bi,Yb薄膜;腐蚀时间
中图分类号:0482.3l 文献标识码:A DoI:10.3788/fgx0027
ofAnti-renection
Preparati帆andProperties
Film
Down-conversionwith
Bi3+,Yb3+Co-dopedY2
03
LIN Hui
Jie,WANGRu—zhi+,GEHong,WANGBo,YAN
(cof妇eo,肘血把砌厶sc据,埘口耐En百n即一凡g,咖增咖觇乃蚵0,‰^加蛔,&坑ng100124,吼i船)
}co御。础ngAmb,,E—m口订:埘昭@驰.甜Ⅱ.cn
down—conversionfilmhasbeen the laser
Abstract:Bi3+,Yb3+co-doped03 preparedby pulse
Y2
on withthe ofmetal-assistedwet
techniqueSi(100)substmteway etching.TheaVemge
deposition
of 300
renectanceofthefilmhasaminimumvalue5.28%intheVisible f而m to800nm.Un-
re百on
311 film in best
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