不同本底真空度下SiCMg极紫外多层膜的制备和测试.pdfVIP

No．12 第17卷第12期 光学精密工程 VoI．17 OpticsandPrecision Dec．2009 2009年12月 Engineering 文章编号1004—924X(2009)12-2946-06 不同本底真空度下SiC／Mg极紫外 多层膜的制备和测试 朱京涛1，黄秋实1，白 亮1，蒋 晖1，徐 敬 ， 王晓强1，周洪军2，霍同林2，王占山1，陈玲燕1 研究所，上海200092； (1．同济大学物理系精密光学工程技术 2．中国科技大学国家同步辐射实验室，安徽合肥230029) 摘要：为研究不同本底真空度对SiC／Mg极紫外多层膜光学性能的影响，利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件 下制备了峰值反射波长在30．4nlTl的SiC／Mg周期膜。X射线掠入射反射测试结果表明，不同本底真空度条件下制备 的SiC／Mg周期多层膜膜层质量有明显差异。用同步辐射测试了SiC／Mg多层膜在工作波长处的反射率，结果表明。本 Pa时，SiC／Mg多层膜反射率 底真空度为6．0×10_5Pa时，SiC／Mg周期膜反射率为43％，而本底真空度在5．0X101 仅为30％。同步辐射反射曲线拟合结果表明，反射率随着本底真空度降低是由多层膜Mg膜层中的Mg氧化物含量增 多造成的。 关键词：极紫外光学；本底真空度；多层膜；反射率；磁控溅射 中图分类号：0484．1文献标识码：A Manufactureandmeasurementof EUV SiC／Mg mirrorsindifferentbase multilayer pressures ZHU Qiu—shil，BAI Huil，XU Jing—ta01。HUANGLian91，JIANGJin91，WANXiao—qian91， Zhan—shanl，CHEN ZHOU Ling—yanl Hong—jun2。HUOTong—lin2，WANG (1．InstitutePrecision of OpticalEngineering，PhysicsDepartment， Radiation 200092，China；2．National TongjiUniversity，Shanghai SynchrotronLaboratory， and Science 230029，China) Universityof TechnologyofChina，Hefei ata