低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征.pdfVIP

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2015-09-02 发布于湖北
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低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征.pdf

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低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征.pdf

110 材科工稷／2008年lo期低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征 ofUltravioletTreatmenton ofPure～silica Application Synthesis ZeoliteLowDielectricConstantThinFilms 袁吴，解丽丽，田震，王利军 (上海第二工业大学城市建设与环境工程学院，上海201209) YUANHao，XIELi—li．TlANZhen，WANG Li-jun (SchoolofUrban andEnvironmental Development Engineering， Second 201209，China) ShanghaiPolytechnicUniversity，Shanghai 摘要：介缨了一种耩铬其有低介曦常数氧化硅分乎筛薄膜的新方法。以正硅酸乙酯为硅源，阴丙基氢氧诧谈(TPAOH) 为模板剂和碱源，采舣水热晶化技术，通过原位法在硅晶片表面制备出纯二氧化硅透明分子筛薄膜；采用紫外光解法脱除分子筛薄膜孔道内的模板剂，制胬】出具有低介电性能的氧化被分子筛薄膜。使用FT-IR，XRD和SEM对样品进行了结毒鸯度缝，劳采矮戮撬分辑经嚣爨了薄簇熬奔毫鬻数，采惩续米矮度黄嚣量薄膜瓣弹性横蟹秘硬度。关键潲：紫外光解法；有机模板莉；氧化硅分子筛薄膜中圈分类号：0649文献标识码：A 文章编号：1001-4381(2008)10-0110-04 novel was inthe of zeolitethin Abstract：A approach pure-silica photochemical developedpreparation films lowdielectric zeolitefilmswere onsili- having constants(￡)。Transparentpure-silica synthesized conwafers reaction，inwhich usedassilica throughhydrothermal andalkaline treat- ammoniumoxide(TPAOH)assource．Anultraviolet source，tetrapropyl template mentwas tOremovethe withinthe ofzeolite templates subsequentlyapplied organic pores／channels films．ThethinfilmswerecharacterizedFT-IR，XRDandSEM beforeandafte