反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的XPS结构研究.pdfVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 # ’ !$$ ’ ， ， ， NFG 6# DF 6’ 2H4IHOPH, !$$ （ ） $$$-!’$5 !$$5 # $’ 5 !!$-$# +(J+ 1)M2K(+ 2KDK(+ !!$$ (QCB 6 1QR3 6 2FE 6 反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石 薄膜的!# 结构研究! 江美福 宁兆元 （苏州大学物理科学与技术学院，苏州 !#$$% ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） !$$ $ !$$ ! ’ 采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷（ ）和氩气（ ）作源气体制备了氟化类金刚石（ ()* +, *- ）薄膜，通过 光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外 可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜 ./( 012 - 中键结构、! 杂化比以及光学带隙等性能的影响 结果表明在低功率（ ）、高气压（ ）和适当的流量比 34 5 34 6 %$7 ! 8$19 （ ）下利用射频反应磁控溅射法可制备出氟含量高且具有较宽光学带隙和超低介电常数的 +,5 ()* : ! ; *-./( 薄膜6 关键词：反应磁控溅射，氟化类金刚石薄膜，红外透射光谱， 光谱 012 ： ， ， $%% # =$/ %#* 膜的结构和性质如介电常数和光学带隙等的影响至 8 引 言 今仍不甚明了，因此进一步研究工艺条件对 *-./( 薄膜结构和性能方面的影响对于开发此类功能材料 类金刚石（ ）薄膜由于含有较大比例的 的应用是很有必要的 ./( 34 6 键，具有优异的耐磨性、热稳定性、化学稳定性和抗 本文使用高纯石墨作靶、 和 作源气体、 +, ()* 腐蚀能力，同时还具有高的电阻率、电绝缘强度和热 采用射频反应磁控溅射法在不同的源气体流量比下 导率，在机械加工、电子、光学等领域已有广泛的应 制备了*-./( 薄膜，对其作了012 光谱分析，并结 用6近年来对 ./( 薄膜进行氮化或氟化受到了关 合拉曼光谱、红外透射光谱研究了不同源气体流量 注，期望在保留