基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性.pdfVIP

第 32卷 第 3期 河 南 科 技 大 学 学 报 ：自然 科 学 版 VOl_32 NO．3 2011年 6月 JournalofHenanUniversityofScienceandTechnology：NaturalScience Jun． 2O11 文章编号 ：1672—6871(2011)03—0009—03 基于 MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性 赵 洋 ，赵 龙 ，王 辉 ，汤正新 ，王 瑾 ，史志峰 (1．吉林大学 电子科学与工程学 院，吉林 长春 130023；2．河南科技大学 物理与工程学院，河南 洛 阳 471003) 摘要 ：用金属有机化学气相沉积法在 si衬底上制备 了NiO薄膜 。分别采用 x光 电子能谱 、电子显微镜、x射 线衍射以及紫外 一可见分光光度计对样 品的结构和光学特性进行测试 。x光电子能谱测试结果表 明：薄膜 中 Ni元素以二价态存在 ，Ni与0 比值接近 1：1，表 明制备的样品为 NiO薄膜 ；电子显微镜和 x射线衍射分析显 示 NiO薄膜呈现 多晶态 ；紫外 一可