无支撑光学级MPCVD金刚石膜的研制.pdfVIP

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2015-09-04 发布于重庆
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无支撑光学级MPCVD金刚石膜的研制.pdf

第3l卷第6期真空科学与技术学报 CⅢNESE OFVACUUIVlSCIENCEANDTECHN010GY 2011年11、12月 JOURNAL 无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制丁明清’ 陈长青白国栋李含雁冯进军胡银富 (大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室北京真空电子技术研究所北京100015) Diamond Microwave Growthof Films Free-Stanaing by PlasmaChemical VaporDeposition Yinfu Changqir,g，Bai Jinjuri，Hu DingMingqing。，Chen Guodong，LiHanyan，Feng (Vacuum Research E／ectron／岱Nat／ona／Laboratory，蜥Vacu啪ElectronicsInstitute，蜥100015，China) diamondfilmswere 6kwmicrowave AbstractThe chemical hi【ghqualityfree—standing grownby plasma deposition ofthe thesubstrate substmtes．The (NPCVD)Onn-typeSi(100)wafer impactsgrowthconditions，includingtemperature of flow microwavemicrostructuresand ofthediamond and rates，and position，pressure，ratioCH4／H2 power，Oil properties filmswe陀characterizedwith electron X-mydiffr舵tion(XRD)，8clmingmicroscopy(SEIVI)，Raman results thatthe and ofthesubstrate affectthefilm conventional show temperatureposition significantly probes．The that a inthe from800。Cto intheCOIn- exists．Forimtanee，at 1050％，the growth，andfew印2 temperaturerange grain an in of diamondfilms 1 substrate