脉冲激光溅射沉积光学增益薄膜实验研究.pdfVIP

维普资讯 第 28卷第 2期 应 用 激 光 VoL28，No．2 2008年 4月 ApPLlED LAsER April2008 脉冲激光溅射沉积光学增益薄膜实验研究* 刘 中凡， 郝雪， 周松强， 朱文选 ， 宋昌烈 (大连大学物理科学与技术学院 激光光 电子实验室，辽宁 大连 116622) 提要 用脉冲激光沉积方法 ，以多靶交替溅射方式，在 SiO ／si基底上沉积镱铒共掺 03光学薄膜 ，讨论 了脉冲激光能量对薄 膜沉积速率、表面形貌 、光致发光强度 的影响。在脉冲激光能量较高条件下制备出的薄膜的光致发光性能较好 ，脉冲激光能量较 低条件下制备 出的薄膜的表面形貌较均匀 。综合放大器增益系数对光致发光强度和光刻工艺对薄膜表面形貌的要求 ，薄膜应该