基于WO3和NiOx的单基片全无机智能窗器件的快速制备及其性能的研究.pdfVIP

基于WO3和NiOx的单基片全无机智能窗器件的快速制备及其性能的研究.pdf

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基于WO3和NiOx的单基片全无机智能窗器件的快速制备及其性能的研究.pdf

助 锨 材 料 基于W03和NiOz的单基片全无机智能窗器件的 快速制备及其性能的研究’ 王怀义1”,刁训刚1,王武育3,郝维昌1,王聪1,王天民1 (1.北京航空航天大学理学院凝聚态与材料物理研究中心,北京100083; 2.北京印刷学院基础部,北京102600;3.北京有色金属研究总院,北京100088) 摘 要: 介绍了利用磁控溅射和一种液氮冷却装置, 2实验方法 制备非晶态W03薄膜、非晶态LiNbO。薄膜和纳米微 晶态NiQ薄膜的有效方法。进而,使用这种液氮冷 2.1溅射参数的选择 却装置,采用全程基片冷却方法,制备了单基片无机全 本工作采用的设备为中国科学院沈阳真空科学仪 固态智能窗——GIITOINiO。ILiNbO。lWO。IITO器 件。实验结果表明,在400~800nm的可见光范围内,设备为3个靶位——永磁直流靶、励磁直流靶和永磁 该器件经过1000次循环后,它的漂白态透射率为射频靶的溅射装置。 63.0%,而着色态透射率为10.6%,这一初步工作表 明,基片冷每方法应该是铡备有优异性能的无机全固 的制备参数均分别为Wo。薄膜;永磁直流靶(钨(w) 态电致变色智能窗的有效方法。 关键词:磁控溅射;无机全固态;电致变色;智能窗 中图分类号:0484.1 文献标识码:A 文章编号:1001—9731(2009)08—1292—05 1 引 言 电致变色[1]是指在电场或电流的作用下,材料对 光的透射率和反射率能够产生可逆变化的现象。根据 电致变色机理,电致变色材料可分为阴极电致变色材 料和阳极电致变色材料[2],而无机金属氧化物W0。和 NiO.分别是典型的阴极电致变色和阳极电致变色材 料。根据国内外的研究报道,无定形非晶态WO。[3~5] 和纳米微晶态Niq[6_81有优异的电致变色性能。进 述)。 而以WOs和Niq作为互补型电致变色层的全固态 五层膜电致变色智能窗凹]的研制受到了广泛的重视。 2.2 但全固态智窗器件多为采用导电聚合物作为离子导电 层的双玻璃夹片式结构[1引,该结构存在着夹片易脱落 玻璃基底上制备各单层膜,使用JapanRigakuD/ dif- RigakuD/2200PC 且结构笨重的缺陷。因此,寻找制备单基片全薄膜智 2200PC衍射仪(X-rayJapan fraction 能窗器件的有效方法,是一项非常有意义的工作。 meter,CuKa,.:I一0.15418nm)获得的。 文献[11]提出了一种利用液氮冷却磁控溅射过程 中的基片,制备纳米微晶态NiQ薄膜的有效方法。 溅射时间均为10min,冷却基片时驱动液氮用的氮气 既然基片低温状态是制备非晶态和纳米微晶态薄膜的 首要前提条件,而用于提供Li+使其注入/拉出电致变 色层发生漂白/着色效应的LiNbO。薄膜也为非晶态冷却基片时驱动液氮用的氮气流量分别为0(室温)、 结构[121,因此,如果利用我们研制的这一装置‘11],在液 的溅射时间为90min,冷却基片时驱动液氮用的氮气 氮冷却的ITO透明导电基片上,依次溅射NiO.、LiN— 流量为25ml/min。 b03、WOs和(外)ITo各膜层,就有可能制备出有优异 性能的单基片全薄膜智能窗器件。 -基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2007CB936300) 收到初稿日期:2009—01—12

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