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CuSn-58BiCu焊点在电迁移过程中晶须和小丘的生长.pdf
第45卷 第6期 舍属学绞 V101.45No.6
ACTAMETALLURGICASINICA Jun.2009
2009年6月第744’一748页 PP.744—748
焊点在电迁移过程中晶须和小丘的生长
Cu/Sn-58Bi/Cu
何洪文 徐广臣 郭福
(北京工业大学材料科学与工程学院,北京100124)
摘要 利用SEM和EDS研究了Cu/Sn-58Bi/Cu焊点在电流密度为5×103A/cm2,80℃条件下晶须和小丘的生长.
通电540
h后,在焊点阴极界面区出现了钎料损耗,同时形成了晶须,而在阳极Cu基板的钎料薄膜上形成了大量弯曲状晶须和块
状小丘.EDS检测表明,这些晶须和小丘为Sn和Bi的混合物.通电630h后,阳极上的晶须和小丘数量明显增多,原来形成晶
须的尺寸和形状没有变化,阴极界面处形成Cu_6Sn5金属问化合物.上述现象表明:电迁移引发了金属原子的扩散迁移,从而在阳
极Cu基板上形成了一层钎料薄膜.钎料薄膜中金属间化合物的形成导致压应力的产生,促使晶须和小丘生长,而阴极钎料损耗区
域内晶须的形成与Joule热聚集有关.
关键词电迁移,晶须,金属问化合物,压应力,Joule热
中图法分类号TGll5 文献标识码A
FoRMATIoNoFWHISKERANDHILLoCKIN
SoLDEREDJOINTDuRING
Cu/Sn-58Bi/Cu
ELECTROMIGRA,IIoN
HE
Hongwen,XUGuangchen,GUO观
of
of MaterialsScienceand 100124
BeijingUniversityTechnology,School Engineering,Beijing
Correspondent:HEHongwen,Tel:(010)6739e523,E-maihhhw@emails.bjut.edu.c仃
ExcellentTalentsin
SuppoSedbyProgramo/NewCentury University(No.似一oeoe)
received revisedform2009-03--31
Manuscript2008-11—18,in
in
ABSTRACTWiththetrendsof andmicrominiaturizationelectronic
higherintegration packaging.
thesizesofthesolderedare smallerandsmaller.The current in
jointsbecoming correspondingdensity
the
thesolderedcan reach or makes
jointseasily 10aA/cm2higher,which
more willleadtotheatomsto attheanodesideand voidsorcracksat
prominent.EM pileup prod
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