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维普资讯
l制造工程设计
lMwmfactureEngineeringDes培n
【文章编号】1007．9467(2008)09—0062—04
TFT—LCD阵列工艺中的特气技术
■ 杨光明，李志伟 (中国电子工程设计院，北京 100840)
【摘 要】根据TFT阵列工艺中的各种膜的组成结构，分析了 htemainphysicalandchemicalprocessoffilming，Dryetchand
特气在成膜、刻蚀和清洗等工艺过程 中的主要物理和化学 cleaningwasanalyzedandtheperformanceindexofthespecialgas
过程。对特气按危险性进行 了分类，介绍了供气系统和废 wasgiven．The category ofthespecialagswassummarized
气处理的方案以及废气处理应达到的指标。 accordingtotheharmfulnessandthesupplysystemnadexhaustags
【关键词]TFT-LCD，特气，排放处理 treatmentsystemwasanalyzedinthelastofthispaper．
【中图分类号】TP2l1．6 【文献标志码】A [Keywords]TFT—LCD；Specialgas；gassupplyandehxaust
SpecialGasTechnologyinTFT—LCDArray treatmentsystem
Process 平板显示是我国 “十一五”和中长期科技发展
YANG Guang—min．LIZhi-wei 的重点产业 。国内薄膜晶体管液晶显示器(thinfilm
(Chinaelectronicsengineeringdesigninstitute，Beijing100840， transistorliquidcrystaldisplay，TFT—LCD)产业发展炙
Chnia) 手可热。目前，国内在TFT—LCD技术领域的交流比
[Abstract]AccordingtothefilmsstructureofTFTarrayprocess，
较少 。特气和特药是TFT．LCD工艺过程中必须
的具体参数，将45代线、5代线和6代线的服务能力绘 l66．
制成图7。在图7中横坐标表示每层中储位的数量。 [6]GeraldT．Mackulak，PaulSavory ．A Simulation-based
从图7中的性能曲线可 以看 出，随着 TFT工厂 experiment for comparing AMHS perfomr ance in a
semiconductorfabricationfacility[C]．Mackulak，G．T．；Savory，
世代线的提高，对于具有相同储位的Stocker来说其
P．SemiconductorMa
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