脉冲激光溅射SnO2气敏膜.pdfVIP

维普资讯 云南大学学报 (自然科学版) 1997，19(1)：62~64 CN 53-1045／N ISSN0258-7971 JournalofYunnanUniversity ⑨ 6 6(}， 脉冲激光溅射SnO：气敏膜① √ ；D2f 赵 岩 冯钟潮 粱 勇 ( 罩磊 两 _沈l阳，110015) 摘要 脉冲激光溅射镀膜是一种高质量的薄膜制备技术 车文研究分别以sno和纯锝作 靶，用此技术生长的SnO膜的结构及对氢、乙醇的气敏性，探索将此技术应用于气敏膜制备 的途径． 关键词 脉冲激光溅射 sno， 苎 分类号 TN304 21 二 诲豫 制备 薄膜型传感器易于微型化、集成化， 导体 SnO 膜的电学性能对生长工艺非常 同半导体技术结台起来，制成性能稳定、 敏感．需要精确地控制反应参数 激光器 低能耗、强功能的气敏器件，是气敏传感 波长 308rim，脉冲时间36lls．激光束在 器的发展方向之一．制作薄膜气敏器件的 靶 上 扫 描 ， 功 率 密 度 可 达 5× 关键技术之一是薄膜的生长技术．现在采 l0W ／cm．选用 SnO2粉压制的圃片和 用的有：蒸发法、溅射法、溶胶 凝胶 高纯的锡作靶材．基片为已布上金电极的 (SOL-GEL)法、化学气相沉积法等．脉 A1，0 陶瓷片和单晶Si(Ⅲ)片 冲激光溅射镀膜技术是80年代中期开始被 重视和发展起来的新的镀膜技术．它成功 配气及控制系统 地应用在研究成分复杂，对化学计量比及 结构有严格要求的高温超导膜的制备，成 为当前制备高温超导膜最有效的制膜方 法．它主要具有保证薄膜的化学成分与靶 规管 一 致，溅射粒子处于等离子状态，具有很 高能量，溅射粒子有较大的前行速度及所 需靶材小等特点，适于生长高质量的薄 膜 ”． 我们从SnO 气敏膜开始，研究把脉 冲激光溅射镀膜技术应用到气敏膜的制备 真空系统 中． 图1 脉冲激光谶射镀胰装置简图 1 实 验 Figl Instruments schematic diagram of 研制的激光溅射镀膜装置如图 1．半 pulsedlaserdeposition ① 1996—09—28收稿 维普资讯 第1期 赵 岩等：脉冲激光溅射sn 气敏膜 63 用XRD和 SEM 研究了膜层结构与 或电离，形成高能状态的等离子体气流， 形貌，并测试了对 5×10。氢气1×10 乙 它 以极高的速度 (～3×10cm ／s)射向 醇等气体的敏感性能 基片，形成与基片有良好结合力的薄膜． 2．1 sno2靶 2 结果与讨论 反应室中氧气压力保持在 lOPa．溅 高能量的激光照在靶上，立刻在垂直 射膜在空气