斜角蒸镀光学薄膜工艺的研究.pdfVIP

第 l2卷 第 3期 重庆科技学院学报 (自然科学版) 2010年 6月 斜角蒸镀光学薄膜工艺的研究 黄 涌 曹一呜 卫 红 王小辉 刘志宇 (广州市光机 电技术研 究院，广州 510633) 摘 要 ：斜角蒸镀方法是制备光学薄膜 的常用方法之一。试验证 明，采用斜角蒸镀方法沉积薄膜 ，能改变薄膜晶体结 构 ．从而使薄膜性能得到改变。在蒸发过程 中，蒸发材料在基底上形成了倾斜 的柱状结构薄膜 ，而且随着蒸镀过程入 射角度的增加 ．薄膜柱状结构也发生 了明显改变 。本文结合试验结果对这些影 响因素加以分析。通过控制薄膜生长 的条件 ．包括沉积的材料和其它条件 ，能够将薄膜结构控制精确到 10nm级别。在薄膜生长过称 中，动量守恒和表面 扩散作用是形成这种独特的柱状结构的主要原因。因此 ，如果能够采用工艺手段改变材料 的结构来改变它 的折射 率 ，就能使光学薄膜的选材更加广泛 ，也能扩大光学薄膜应用范围。 关键词 ：光学薄膜 ；斜角蒸镀 ；阴影效应 ；表面扩散作用 ；动量守恒 中图分类号：0484