直流磁控溅射制备太阳光谱选择性吸收TiN薄膜.pdfVIP

第31卷第9期 太阳能学报 v01．31．No．9 2010年9月 ACTAENERCIAESOLARIsSINICA Sep．，2010 直流磁控溅射制备太阳光谱选择性吸收TiN薄膜 付淑英 (韩山师范学院物理与电子工程系，潮州521041) 摘要：以直流反应磁控溅射方法作为制备手段，选择亿为靶材，以氩气作为工作气体、氮气为反应气体，在 Si(111)基底上制备太阳光谱选择性吸收薄膜TiN，使之具有较好的光谱选择吸收特性。研究发现：在其它工艺参数 0．35Pa时沉积的薄膜致密、均匀，色泽金黄，膜厚为132nm，结晶性最好，电阻率最低为33．8m·锄(接近块体氮化钛 结构、膜厚、吸收率及反射率的分析，制备的TIN薄膜光谱选择性吸收特性良好，具有很高的应用价值。可用于太阳 集热器的吸热表面，并可直接作为光热转换建筑材料。 关键词：太阳光谱选择性吸收薄膜；磁控溅射；氮化钛(’nN)；吸收率；反射率 中图分类号：TB3 文献标识码：A 量实验表明，利用反应磁控溅射制备氮化钛薄膜，溅 O 引 言 射气压对膜的性能及化学成分有很大影响‘8|。 近年来，太阳光谱选择性吸收薄膜的研制及其 本文主要讨论在稳定的氮氩流量比条件下，以 在工业上的应用成为焦点。太阳光谱选择性吸收薄 不同的溅射总压沉积制备氮化钛薄膜用于太阳光谱 膜是中高温太阳集热器的核心部件，许多国家都在 选择性吸收薄膜的光学性能。 积极研究工艺简单、成本低廉、性能优良、稳定的中 1 实验 高温太阳光谱选择性吸收薄膜【l’2J。氮化钛(TiN) 薄膜是目前工业研究和应用最为广泛的薄膜材料之 1．1样品的制备 一，其熔点高、热稳定和抗蚀性好，并具有较高的硬 本实验采用沈阳科友真空技术研究所生产的 度和较低的电阻率，因而被广泛关注。氮化钛薄膜 结构由离子键、共价键和金属键混合而成，这使得氮 度为99．99％的金属Ti靶为溅射靶材，单面抛光的 化钛薄膜具有奇特的光学性能，表现为：①氮化钛薄 膜的色泽和光泽随N／Ti原子比例的改变而变化；②气体，纯度为99．99％的氮气作为反应气体，采用直 当N／Ti为l时，氮化钛薄膜呈现出与黄金媲美的色流反应磁控溅射制备方法，通过改变溅射气压，在 泽和光泽；③膜层较薄时，氮化钛薄膜在可见光区半 透明而在红外光区呈高反射b’4J。因此，氮化钛薄膜 别用氢氟酸、丙酮、酒精和去离子水超声波辅助清洗 可以用作装饰薄膜和太阳能选择性透射薄膜。在此 各10min，用高压氮气吹干，放置在样品台上，在本底 基础上，具有装饰功能的太阳能选择性透射薄膜，在 真空度达到5．0×10“Pa后，通入氩气和氮气。镀膜 应用于光热转换建筑材料方面将极具潜力[5，6]。 过程中，保持稳定的氮氩流量比和溅射时间来控制 作为太阳能光谱选择薄膜，其光学性能依赖于 膜层厚度，具体工艺参数见表1，制备的薄膜样品结 钛与氮的化学计量比[7j，而在稳定的氮氩流量比的 果见表2。 条件下，其光学性能又与溅射总压等密切相关。大 收稿Et期：2009-01-02 项目(GJJ09385) ’ 万方数据 9期 付淑英：直流磁控溅射制备太阳光谱选择性吸收TiN薄膜 表1沉积TiN薄膜基准工艺参数的确定 Table1 Constant TiNthinfilms sputter