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第35卷 第4期 稀有金属材料与工穰 Vbl．35．No．4 2006年 4月 RAREMETALMATERIALSANDENGlNEERING 2006 April 纳米级氧化铟锡复合粉体的制备及其性能 刘家祥1，李敏1，甘勇1，王海宁2 (1．jt京化工大学，可控化学反成科学与技术基确教育部羹点实验窀，北京100029) (2．威海市蓝狐特种材料有限公司，山东威海264200) 摘要：采用化学共沉淀法制备纳米级氧化铟锡复合粉体前驱物，煅烧得到纳米级氧化铟锡(ITO)复合粉体，用TG—DTA， 嘉，ITO露溶体鬏粒结鑫燹完全，燕粒长大。蘸驱物镶锡氢氯曩二物分爱在6004C，800℃亵900C簸浇4h褥裂羧凌缘匀、 nm～30 分散性好、粒径为20 靶材相对理论密度达到99．25％。 关键词：纳米粉体；氧化锾锡；铡备技术；性能 中图法分类号：TQl34．1+1 文献标识码：A 文章编号：1002．185X(2006)04．0662．03 实验分为酸溶、中和滴定、洗涤杂质离子、干燥 1 日lJ 舔 祁煅烧五步。 ITO即氧化铟锡(indium—tin—oxide)或锡掺杂氧将一定质量的金属铟(纯度为99．99％)加入到 indium oxide)复合粉体属稀散金属深 化铟(tin．doped 加工产品，是制备透明导电薄膜用ITO靶材的原料。 ITO薄膜具有透光率高、导电性熊好、紫外线吸收率 高和微波衰减性强等特性，加之其膜层耐磨、抗酸碱、 中水为电阻大于15嚣欧的去离子水。 耐腐蚀和便于蚀刻鳟特点，使其在高技术领域中具有 重要{乍用，广泛应瘸子电予工业、工程材料、建筑行 业、机电行业、轻工行业等诸多领域。纳米级ITO粉 合溶液；混合溶液中滴加优级纯浓氨水至碱性产生沉 体不仅可以为高性麓靶材提供派材料，丽且可以麓成 淀。 电子浆料直接喷涂。纳米级ITO粉体的制备方法有溶 将制得的沉淀用去离子水洗至无其它杂质离子后 热入饶级纯无求乙醇洗涤多次置换其中的永徐，在乙 胶一凝胶法(S01．Gel)、微毳液法、胶体化学法、共沉淀 法、均相沉淀法等方法[1一l。但目前超细ITO复合粉醇洗涤后的沉淀物中加入有机溶剂GY进行共沸蒸 体懿分教性黻及用它制作的ITO靶材酶密凄有待提 馏，蒸馏岳的沉淀物进行囊然予燥褥妥纳寒级锱锡氢 高。本文报道了一种采用特殊后处理的共沉淀法制备 氧化物粉体。 纳米级ITO复合粉体的工艺，磅究了纳米级ITO复合 粉体的形成过程及其性能，将制备出的复合粉体用简 ℃煅烧4h，得到纳米级氧化铟锡复合粉体。 单的烧结工艺烧制的ITO靶材摆对理论密度达裂 2。2纳米级铟锡氢氧化物粉体和纳米级ITO复含粉 99．25％。 体表征 2实验及表征 样品颗粒大小和形貌；ZRY：2P综合热分析仪对钢锡氢 2。1 实验 收到襁鹅日期：2005—06．14；收到修改壤霜期：2006—04—14 基金项目：国家高技术研究863鏊金资助项目(2004AA303542) 万方数据 第4期 刘家祥等：纳米级氯化铟锡复合粉体的制备及其性能 ·663· D／max．2500型)分析常温、高温铟锡氢氧化物动态和 ITO复合粉体样品物檩；x象线荧光光谱纹(PW2404) 分析ITO复合粉体中In20