PCVD制备Ti1-xAlxN硬质薄膜的结构与硬度.pdf

第40卷 第6期 金属学级 Vol·40No·6 ACTAMETALLURGICASINICA June2004 2004年6月669—672页 PP．669—672 马胜利1，3) 徐健2)介万奇3) 徐可为¨ M．G．J．Veprek—Heijman21S．Veprek2) 1)西安交通大学金属材料强度国家重点实验室，西安710049 for of Munich， 2)InstituteChemistryInorganicMaterials，TechnicalUniversity Lichtenbergst．4，D-85747Garching，Munich，Germany 3)西北工业大学凝固技术国家重点实验室，西安710072 摘 要 用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法获得了Til一。A1。N硬质薄膜；考察了Al含量。及高温退火对薄 膜微观结构转变过程及其硬度的影响．结果表明，制备的Til一。Al。N薄膜由3—10am晶粒组成．随Al含量z增加，薄膜 硬度升高， 出现六方氮化铝相(h-A1N)．热稳定性实验表明，Til一。Al。N薄膜的纳米结构和硬度在N2环境下可以维持到900℃． 关键词 (Ti，A1)N硬质薄膜，微观结构，硬度，热稳定性 中图法分类号TGll3 文献标识码A CHARACTERIZATIoNoF AND HARDNESSoFPCVDDEPoSITED Til—zAl茁N HARDCoATINGS MA ShengliI，31．XUJian2)．JIEWanqi3)，XU forMechanicalBehaviorof 710049 1)State--KeyLaboratory Materials，Xi’anJiaotong University，Xi’an for of Inorganic 2)InstituteChemistry Materials，TechnicalUniversityMunich，Lichtenbergst．4，D一85747Garching， Munich，Germany for 710072 Solidification 3)State-KeyLaboratory Processing，NorthwesternPolytechnicUniversity，Xi’an associate Correspondent：MAShengliI Dmail：slma@mail．xitu．edu．c佗 NationafNaturafScienceFoundation 053anandNationai Supportedby ofChina(No．50271 Researchand China High—Technicat DevelopmentProgrammeof f200lAA8830lo)