北航 电子电工第29讲ZhQ.pptVIP

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北航 电子电工第29讲ZhQ

* SiO2 结构示意图 1.6.1 N沟道增强型绝缘栅场效应管 P型硅衬底 源极S 栅极G 漏极D 1.6 绝缘栅场效应管 衬底引线B N+ N+ D B S G 符号 1. 结构和符号 第1章 1.6 SiO2 结构示意图 P型硅衬底 耗尽层 衬底引线B N+ N+ S G D UDS ID = 0 D与S之间是两个 PN结反向串联, 无论D与S之间加 什么极性的电压, 漏极电流均接近 于零。 2. 工作原理 (1) UGS =0 第1章 1.6 P型硅衬底 N + + B S G D 。 耗尽层 ID = 0 (2) 0 UGS UGS(th) 由柵极指向衬底方 向的电场使空穴向 下移动,电子向上移 动,在P 型硅衬底的 上表面形成耗尽层。 仍然没有漏极电流。 UGS N+ N+ 第1章 1.6 UDS P型硅衬底 N + + B S G D 。 UDS 耗尽层 ID 栅极下P型半导 体表面形成N型导电 沟道,当D、S加上 正向电压后可产生 漏极电流ID 。 (3) UGS UGS(th) N型导电沟道 N+ N+ 第1章 1.6 UGS 4 3 2 1 0 5 10 15 UGS =5V 6V 4V 3V 2V ID /mA UDS =10V 增强型 NMOS 管的特性曲线 0 1 2 3 线性放大区 可变电阻区 2 4 6 UGS / V 3. 特性曲线 UGs(th) 输出特性 转移特性 UDS / V 第1章 1.6 ID /mA 结构示意图 1.6.2 N沟道耗尽型绝缘栅场效应管 P型硅衬底 源极S 漏极D 栅极G 衬底引线B 耗尽层 1. 结构特点和工作原理 N+ N+ 正离子 N型沟道 SiO2 D B S G 符号 制造时,在二氧化硅绝缘层中掺入大量的正离子。 第1章 1.6 4 3 2 1 0 4 8 12 UGS =1V –2V –3V 输出特性 转移特性 耗尽型NMOS管的特性曲线 1 2 3 0V –1 0 1 2 –1 –2 –3 UGS / V 2. 特性曲线 ?ID ?UGS UGs(off) UDS / V UDS =10V 第1章 1.6 ID /mA ID /mA N型硅衬底 N + + B S G D 。 耗尽层 PMOS管结构示意图 P沟道 1.6.3 P沟道绝缘栅场效应管(PMOS) PMOS管与NMOS管 互为对偶关系,使用 时UGS 、UDS的极性 也与NMOS管相反。 P+ P+ 第1章 1.6 UGS UDS ID 1. P沟道增强型绝缘栅场效应管 开启电压UGS(th)为 负值,UGS UGS(th) 时导通。 S G D B 符号 ID /mA UGS / V 0 UGS(th) 转移特性 2. P沟道耗尽型绝缘栅场效应管 D B S G 符号 ID /mA UGS /V 0 UGS(off) 转移特性 夹断电压UGS(off)为 正值, UGS UGS(off) 时导通。 第1章 1.6 在UDS =0时,栅源电压与栅极电流的比值,其值很高。 1.6.4 绝缘栅场效应管的主要参数 1. 开启电压UGS(th) 指在一定的UDS下,开始出现漏极电流所需的栅源电 压。它是增强型MOS管的参数,NMOS为正,PMOS为负。 2. 夹断电压 UGS(off) 指在一定的UDS下,使漏极电流近似等于零时所需的 栅源电压。是耗尽型MOS管的参数,NMOS管是负值, PMOS管是正值。 3. 直流输入电阻 RGS(DC) 4. 低频跨导 gm UDS为常数时,漏极电流的微变量与引起这个变化的 栅源电压的微变量之比称为跨导,即 第1章 1.6 另外,漏源极间的击穿电压U(BR)DS、栅源极间的击 穿电压U(BR)GS以及漏极最大耗散功率PDM是管子的极限 参数,使用时不可超过。 gm=?ID / ?UGS? UGS =常数 跨导是衡量场效应管栅源电压对漏极电流控制能力的一个重要参数。 第1章 1.6 场效应管放大电路 2.8.1 场效应管共源极放大电路 分压式自偏压共源极放大电路 +VDD RD C1 C2 RL uo RG2 RS

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