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高温超高压烧结纳米SiC的研究.pdf
第23卷第4期 无机材料学报 Vbl．23．No．4
2008年7月 Journalof Materials Jul．．2008
Inorganic
文章编号：1000．324x(2008)o缸0811一04
高温超高压烧结纳米sic的研究
谢茂林1，罗德礼1，鲜晓斌1，冷邦义1，谢东华1，鲁伟员2
(1．中国工程物理研究院，绵阳621900；2．四川艺精超硬材料有限公司，江油621700)
摘要：
(EDx)、纳米压痕(Nanoindenter)研究了烧结SiC陶瓷的物相组成、晶粒大小、化学成分、微观结构、纳米
压痕力学性能等．结果表明：采用超高压烧结，可以在较低温度(1250士50。C)、较少烧结助剂用量下实现纳米
SiC的致密烧结．烧结体未发生相转变，结构致密，无孔隙，晶粒尺寸为22nm，晶格常数为4．355A；显微硬度
为33．7GPa，弹性模量为407GPa．
关键词：超高压；烧结；碳化硅；氧化铝
中图分类号：TB383文献标识码：A
Nano-SiCCeramic at Pressureand
Sintering H逗h
Ultra-h远h
ⅪE Wbi—YUan2
M挪争Linl，LUOD争Lil，XIANXi锄D_Binl，LENGBa肌g-Yil，XIEDong-Hual，LU
of Ultra-haurdMaterial
(1．ChinaAcademyEn百neeringPhy8ic8，Mianyang621900，China；2．Sichuan Ltd．Co．，
Jian留ou621700，china)
SiCceramicswith additiVeswerefabricated
Abstract：High_densitydoped2wt％A1203 byultra-high
and The
pressurehightemperaturetechnique(4．5GPa，1250。C，20min)．structure8，grainsize，1attice
andmechanicalofthesinteredSiCceramics、vere
parameters，chemical property
component，morphology
characterized
byx—raydi册action(xRD)，x—rayphotoelectronenergy
electron nano indenter．
dispersivex—ray impress
microscope(SEM)，energyspectroscope(EDx)and
Theresultsshowthatnan伊SiCceramicis densifled atrelative
fLllly byultra-h培hpressuretechnique
h01
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